講演名 2020-11-17
SONOS Flashセルを用いた不揮発SRAMの設計と回路シミュレーションによる評価
浦部 孝樹(京都工繊大), 新居 浩二(京都工繊大), 小林 和淑(京都工繊大),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 本稿では SONOS Flash を用いた不揮発の SRAM メモリについてレイアウト設計を行い, その特性について回路シミュレーションを行う. 結果, NV-SRAM の面積は SRAM と比べ 47% 増加するが, 動作速度は 1% 以内の増加に抑えることが可能である. NV-SRAM は待機時に電源を完全に OFF にすることが可能なので, 退避・復帰時に必要な電力を考慮しても, 動作時間の 15% 以上の待機時間があれば電力を削減可能である.
抄録(英) In this paper, we designed a layout of a nonvolatile SRAM memory using the SONOS Flash memory, and investigated its characteristics. As a result of circuit simulations, the area of NV-SRAM increases by 47% compared to SRAM, but the operating speed increases by less than 1%. Because NV-SRAM can be turned off during standby, so the power consumptioncan be reduced if the standby time is 15% or more of the operating time.
キーワード(和) SRAM / 回路シミュレーション / 不揮発メモリ / BET
キーワード(英) SRAM / Circuit Symulation / Nonvolatile memory / Break Even Time
資料番号 VLD2020-11,ICD2020-31,DC2020-31,RECONF2020-30
発行日 2020-11-10 (VLD, ICD, DC, RECONF)

研究会情報
研究会 VLD / DC / RECONF / ICD / IPSJ-SLDM
開催期間 2020/11/17(から2日開催)
開催地(和) オンライン開催
開催地(英) Online
テーマ(和) デザインガイア2020 -VLSI設計の新しい大地-
テーマ(英) Design Gaia 2020 -New Field of VLSI Design-
委員長氏名(和) 福田 大輔(富士通研) / 高橋 寛(愛媛大) / 柴田 裕一郎(長崎大) / 永田 真(神戸大) / 中村 祐一(NEC)
委員長氏名(英) Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Hiroshi Takahashi(Ehime Univ.) / Yuichiro Shibata(Nagasaki Univ.) / Makoto Nagata(Kobe Univ.) / Yuichi Nakamura(NEC)
副委員長氏名(和) 小林 和淑(京都工繊大) / 土屋 達弘(阪大) / 佐野 健太郎(理研) / 山口 佳樹(筑波大) / 高橋 真史(キオクシア)
副委員長氏名(英) Kazutoshi Kobayashi(Kyoto Inst. of Tech.) / Tatsuhiro Tsuchiya(Osaka Univ.) / Kentaro Sano(RIKEN) / Yoshiki Yamaguchi(Tsukuba Univ.) / Masafumi Takahashi(masafumi2.takahashi@kioxia.com)
幹事氏名(和) 桜井 祐市(日立) / 兼本 大輔(大阪大学) / 新井 雅之(日大) / 難波 一輝(千葉大) / 三好 健文(イーツリーズ・ジャパン) / 小林 悠記(NEC) / 柘植 政利(ソシオネクスト) / 廣瀬 哲也(阪大) / 瀬戸 謙修(東京都市大) / 密山 幸男(高知工科大) / 君家 一紀(三菱電機) / 廣本 正之(富士通研)
幹事氏名(英) Yuichi Sakurai(Hitachi) / Daisuke Kanemoto(Osaka Univ.) / Masayuki Arai(Nihon Univ.) / Kazuteru Namba(Chiba Univ.) / Takefumi Miyoshi(e-trees.Japan) / Yuuki Kobayashi(NEC) / Masatoshi Tsuge(Socionext) / Tetsuya Hirose(Osaka Univ.) / Kenshu Seto(Tokyo City Univ.) / Yukio Mitsuyama(Kochi Univ. of Tech.) / Kazuki Oya(Mitsubishi Electric) / Masayuki Hiromoto(Fujistu Lab.)
幹事補佐氏名(和) 西元 琢真(日立) / / 中原 啓貴(東工大) / 竹村 幸尚(インテル) / 新居 浩二(TSMCデザインテクノロジージャパン) / 宮地 幸祐(信州大) / 久保木 猛(九大)
幹事補佐氏名(英) Takuma Nishimoto(Hitachi) / / Hiroki Nakahara(Tokyo Inst. of Tech.) / Yukitaka Takemura(INTEL) / Koji Nii(TSMC) / Kosuke Miyaji(Shinshu Univ.) / Takeshi Kuboki(Kyushu Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology
本文の言語 JPN
タイトル(和) SONOS Flashセルを用いた不揮発SRAMの設計と回路シミュレーションによる評価
サブタイトル(和)
タイトル(英) Design of Nonvolatile SRAM Using SONOS Flash Cell and its Evaluation by Circuit Simulation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) SRAM / SRAM
キーワード(2)(和/英) 回路シミュレーション / Circuit Symulation
キーワード(3)(和/英) 不揮発メモリ / Nonvolatile memory
キーワード(4)(和/英) BET / Break Even Time
第 1 著者 氏名(和/英) 浦部 孝樹 / Takaki Urabe
第 1 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学(略称:京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology(略称:KIT)
第 2 著者 氏名(和/英) 新居 浩二 / Koji Nii
第 2 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学(略称:京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology(略称:KIT)
第 3 著者 氏名(和/英) 小林 和淑 / Kazutoshi Kobayashi
第 3 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学(略称:京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology(略称:KIT)
発表年月日 2020-11-17
資料番号 VLD2020-11,ICD2020-31,DC2020-31,RECONF2020-30
巻番号(vol) vol.120
号番号(no) VLD-234,ICD-235,DC-236,RECONF-237
ページ範囲 pp.1-5(VLD), pp.1-5(ICD), pp.1-5(DC), pp.1-5(RECONF),
ページ数 5
発行日 2020-11-10 (VLD, ICD, DC, RECONF)