| 講演名 | 2020-03-04 ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 東 梨奈(会津大), 小平 行秀(会津大), 松井 知己(東工大), 高橋 篤司(東工大), 児玉 親亮(キオクシア), |
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| 抄録(和) | 製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する技術を光近接効果補正と呼び，光リソグラフィの進展において重要な役割を担っている．本稿では，ラグランジュ緩和法と劣勾配法を用いた既存手法に対して，計算機実験により最適な劣勾配法のパラメタを検討する．また，さらにパタン忠実度を高めるため，境界flippingを提案し，ラグランジュ緩和法によって得られたマスクに適用する．計算機実験において提案手法の性能を既存手法と比較し評価する． |
| 抄録(英) | Due to miniaturization of process technology, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction, which improves shape fidelity of formed patterns on wafers against designed target patterns by mask optimization, is essential to progress the optical lithography. In this paper, optimal parameters of Subgradient method are explored by computational experiments for an existing method using Lagrangian relaxation method and Subgradient method. Moreover, boundary flipping method is proposed and applied to the mask obtained by Lagrangian relaxation method to improve image contour fidelity. The proposed method is evaluated by comparing with existing methods in computational experiments. |
| キーワード(和) | リソグラフィ / リソグラフィシミュレーション / 光近接効果補正 / 製造容易設計 |
| キーワード(英) | lithography / lithography simulation / optical proximity correction (OPC) / design for manufacturability (DFM) |
| 資料番号 | VLD2019-105,HWS2019-78 |
| 発行日 | 2020-02-26 (VLD, HWS) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS / VLD |
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| 開催期間 | 2020/3/4(から4日開催) |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawa Ken Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 |
| テーマ（英） | Design Technology for System-on-Silicon, Hardware Security, etc. |
| 委員長氏名（和） | 川村 信一(東芝) / 戸川 望(早大) |
| 委員長氏名（英） | Shinichi Kawamura(Toshiba) / Nozomu Togawa(Waseda Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 池田 誠(東大) / 島崎 靖久(ルネサスエレクトロニクス) / 福田 大輔(富士通研) |
| 副委員長氏名（英） | Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) / Yasuhisa Shimazaki(Renesas Electronics) / Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) |
| 幹事氏名（和） | 国井 裕樹(セコム) / 小野 貴継(九大) / 小平 行秀(会津大) / 桜井 祐市(日立) |
| 幹事氏名（英） | Hiroki Kunii(SECOM) / Takatsugu Ono(Kyushu Univ.) / Yukihide Kohira(Univ. of Aizu) / Yuichi Sakurai(Hitachi) |
| 幹事補佐氏名（和） | / 池田 一樹(日立) |
| 幹事補佐氏名（英） | / Kazuki Ikeda(Hitachi) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Hardware Security / Technical Committee on VLSI Design Technologies |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Pixel-based Mask Optimization with Lagrangian Relaxation and Boundary Flipping |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| キーワード(2)（和/英） | リソグラフィシミュレーション / lithography simulation |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / optical proximity correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | 製造容易設計 / design for manufacturability (DFM) |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 東 梨奈 / Rina Azuma |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) the University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) the University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松井 知己 / Tomomi Matsui |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama |
| 第 5 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア) KIOXIA Corporation(略称：KIOXIA) |
| 発表年月日 | 2020-03-04 |
| 資料番号 | VLD2019-105,HWS2019-78 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | VLD-443,HWS-444 |
| ページ範囲 | pp.65-70(VLD), pp.65-70(HWS), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2020-02-26 (VLD, HWS) |