講演名 2020-03-04
リソグラフィホットスポット検出用既存訓練データの修正による訓練データの追加生成
片岡 岳(広島市大), 稲木 雅人(広島市大), 永山 忍(広島市大), 若林 真一(広島市大),
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抄録(和) 半導体製造工程のリソグラフィにおいて発生する,異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンをホットスポットと呼ぶ.ホットスポットは歩留まり低下の要因となるため,設計の段階で検出し除去する必要がある.近年,高速なホットスポット候補の検出手法として機械学習を用いた手法が注目されているが,既存の回路パターンデータセットは,データ数が少量であることや,どのようなリソグラフィ条件を想定の下でのラベルであるかが不明瞭などの問題がある.本稿では,光学シミュレーションを用いて,既存の回路パターンデータセットで与えられるラベルの妥当性を分析し,さらにデータセットに修正を加えることで,訓練データの追加生成を行う.
抄録(英) In lithography, a circuit pattern that is highly likely to cause an undesired open- and short-circuit after transfer is called a hotspot.Since hotspots cause a lower yield, they need to be detected and removed at the design stage.In recent years, several methods based on machine learning have been proposed as a fast hotspot candidates detection methods, but there have been problems in the number of data of existing circuit pattern data set and the validities of the original labels.In this study, the validities of the labels given in the existing circuit pattern data set is analyzed using the optical simulation, and additionally generate the training data by modifying the data set.
キーワード(和) リソグラフィ / ホットスポット / データセット / 光学シミュレーション
キーワード(英) lithography / hotspot / data set / optical simulation
資料番号 VLD2019-107,HWS2019-80
発行日 2020-02-26 (VLD, HWS)

研究会情報
研究会 HWS / VLD
開催期間 2020/3/4(から4日開催)
開催地(和) 沖縄県青年会館
開催地(英) Okinawa Ken Seinen Kaikan
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon, Hardware Security, etc.
委員長氏名(和) 川村 信一(東芝) / 戸川 望(早大)
委員長氏名(英) Shinichi Kawamura(Toshiba) / Nozomu Togawa(Waseda Univ.)
副委員長氏名(和) 池田 誠(東大) / 島崎 靖久(ルネサスエレクトロニクス) / 福田 大輔(富士通研)
副委員長氏名(英) Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) / Yasuhisa Shimazaki(Renesas Electronics) / Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.)
幹事氏名(和) 国井 裕樹(セコム) / 小野 貴継(九大) / 小平 行秀(会津大) / 桜井 祐市(日立)
幹事氏名(英) Hiroki Kunii(SECOM) / Takatsugu Ono(Kyushu Univ.) / Yukihide Kohira(Univ. of Aizu) / Yuichi Sakurai(Hitachi)
幹事補佐氏名(和) / 池田 一樹(日立)
幹事補佐氏名(英) / Kazuki Ikeda(Hitachi)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Hardware Security / Technical Committee on VLSI Design Technologies
本文の言語 JPN
タイトル(和) リソグラフィホットスポット検出用既存訓練データの修正による訓練データの追加生成
サブタイトル(和)
タイトル(英) Additional Training Data Generation for Lithography Hotspot Detection by Modifying Existing Training Data
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) リソグラフィ / lithography
キーワード(2)(和/英) ホットスポット / hotspot
キーワード(3)(和/英) データセット / data set
キーワード(4)(和/英) 光学シミュレーション / optical simulation
第 1 著者 氏名(和/英) 片岡 岳 / Gaku Kataoka
第 1 著者 所属(和/英) 広島市立大学(略称:広島市大)
Hiroshima City University(略称:Hiroshima City Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 稲木 雅人 / Masato Inagi
第 2 著者 所属(和/英) 広島市立大学(略称:広島市大)
Hiroshima City University(略称:Hiroshima City Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 永山 忍 / Shinobu Nagayama
第 3 著者 所属(和/英) 広島市立大学(略称:広島市大)
Hiroshima City University(略称:Hiroshima City Univ.)
第 4 著者 氏名(和/英) 若林 真一 / Shin'ichi Wakabayashi
第 4 著者 所属(和/英) 広島市立大学(略称:広島市大)
Hiroshima City University(略称:Hiroshima City Univ.)
発表年月日 2020-03-04
資料番号 VLD2019-107,HWS2019-80
巻番号(vol) vol.119
号番号(no) VLD-443,HWS-444
ページ範囲 pp.77-82(VLD), pp.77-82(HWS),
ページ数 6
発行日 2020-02-26 (VLD, HWS)