講演名 2020-01-28
[招待講演]3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する新規半円型ゲート分断構造セル
諸岡 哲(キオクシア),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 SDM2019-86
発行日 2020-01-21 (SDM)

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2020/1/28(から1日開催)
開催地(和) 機械振興会館
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和) 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集)
テーマ(英)
委員長氏名(和) 品田 高宏(東北大)
委員長氏名(英) Takahiro Shinada(Tohoku Univ.)
副委員長氏名(和) 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ)
副委員長氏名(英) Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic)
幹事氏名(和) 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(キオクシア)
幹事氏名(英) Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(KIOXIA)
幹事補佐氏名(和) 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大)
幹事補佐氏名(英) Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Silicon Device and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) [招待講演]3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する新規半円型ゲート分断構造セル
サブタイトル(和)
タイトル(英) [Invited Talk] 3D Semicircular Flash Memory Cell: Novel Split-Gate Technology to Boost Bit Density
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 諸岡 哲 / Tetsu Morooka
第 1 著者 所属(和/英) キオクシア(略称:キオクシア)
kioxia(略称:kioxia)
発表年月日 2020-01-28
資料番号 SDM2019-86
巻番号(vol) vol.119
号番号(no) SDM-397
ページ範囲 pp.13-18(SDM),
ページ数 6
発行日 2020-01-21 (SDM)