講演名 2020-01-17
画素間で均一な特性をもつ多画素TES型ガンマ線マイクロカロリメータ実現に向けたSiO_2/Si_xN_y/SiO_2メンブレンの製作
菊地 貴大(産総研), 神代 暁(産総研), 藤井 剛(産総研), 浮辺 雅宏(産総研), 大野 雅史(東大), スミス ライアン(東大), 生稲 新太郎(ハイソル),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 SCE2019-75
発行日 2020-01-09 (SCE)

研究会情報
研究会 SCE
開催期間 2020/1/16(から2日開催)
開催地(和) 横浜市開港記念会館
開催地(英)
テーマ(和) 超伝導エレクトロニクス一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 神代 暁(産総研)
委員長氏名(英) Satoshi Kohjiro(AIST)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和) 竹内 尚輝(横浜国大) / 三木 茂人(NICT)
幹事氏名(英) Naoki Takeuchi(Yokohama National Univ.) / Shigehito Miki(NICT)
幹事補佐氏名(和) 赤池 宏之(大同大)
幹事補佐氏名(英) Hiroyuki Akaike(Daido Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Superconductive Electronics
本文の言語 ENG-JTITLE
タイトル(和) 画素間で均一な特性をもつ多画素TES型ガンマ線マイクロカロリメータ実現に向けたSiO_2/Si_xN_y/SiO_2メンブレンの製作
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of SiO_2/Si_xN_y/SiO_2 Membranes for Multipixel Gamma-Ray Transition Edge Sensors with Uniform Characteristics
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 菊地 貴大 / Takahiro Kikuchi
第 1 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
第 2 著者 氏名(和/英) 神代 暁 / Kohjiro Satoshi
第 2 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
第 3 著者 氏名(和/英) 藤井 剛 / Go Fujii
第 3 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
第 4 著者 氏名(和/英) 浮辺 雅宏 / Masahiro Ukibe
第 4 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
第 5 著者 氏名(和/英) 大野 雅史 / Masashi Ohno
第 5 著者 所属(和/英) 東京大学(略称:東大)
The University of Tokyo(略称:UTokyo)
第 6 著者 氏名(和/英) スミス ライアン / Ryan Smith
第 6 著者 所属(和/英) 東京大学(略称:東大)
The University of Tokyo(略称:UTokyo)
第 7 著者 氏名(和/英) 生稲 新太郎 / Shintaro Ikuine
第 7 著者 所属(和/英) ハイソル株式会社(略称:ハイソル)
HiSOL Incorporated(略称:HiSOL)
発表年月日 2020-01-17
資料番号 SCE2019-75
巻番号(vol) vol.119
号番号(no) SCE-369
ページ範囲 pp.183-187(SCE),
ページ数 5
発行日 2020-01-09 (SCE)