講演名 2019-11-07
[招待講演]触媒反応支援化学気相成長法を用いた金属酸化物薄膜の成長
安井 寛治(長岡技科大),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 触媒反応を利用して高エネルギーH2O分子を生成、有機金属ガスと気相中で反応させ金属酸化物薄膜を成長させるCVD法の開発とそれに至る経緯について紹介する。そしてこのCVD法により作製した高品位酸化亜鉛(ZnO)結晶膜の結晶性、配向性、電気伝導特性、ならびに光学特性についても説明する。更に微量のN2Oガスを添加したことによる結晶性、電気伝導特性、光学特性の改善効果について説明する。
抄録(英) Author reports a new CVD method for thin film growth of metal oxides using a reaction between organometallic compounds and high-energy H2O produced by a Pt-catalyzed H2-O2 reaction. The ZnO film properties such as crystallinity, electrical and optical properties are reported. In addition, improvement of the electron mobility and optical emission property by the addition of N2O gas is also reported.
キーワード(和) 触媒反応 / 化学気相成長法 / 金属酸化物薄膜
キーワード(英) Catalytic reaction / Chemical vapor deposition / Metal-oxide thin film
資料番号 CPM2019-48
発行日 2019-10-31 (CPM)

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2019/11/7(から2日開催)
開催地(和) 福井大学 文京キャンパス
開催地(英) Fukui univ.
テーマ(和) 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス,一般
テーマ(英)
委員長氏名(和) 武山 真弓(北見工大)
委員長氏名(英) Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.)
副委員長氏名(和) 中村 雄一(豊橋技科大)
副委員長氏名(英) Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.)
幹事氏名(和) 中澤 日出樹(弘前大)
幹事氏名(英) Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.)
幹事補佐氏名(和) 木村 康男(東京工科大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 廣瀬 文彦(山形大)
幹事補佐氏名(英) Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) [招待講演]触媒反応支援化学気相成長法を用いた金属酸化物薄膜の成長
サブタイトル(和)
タイトル(英) [Invited Talk] Metal oxide film growth by a catalytic reaction-assisted chemical vapor deposition
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 触媒反応 / Catalytic reaction
キーワード(2)(和/英) 化学気相成長法 / Chemical vapor deposition
キーワード(3)(和/英) 金属酸化物薄膜 / Metal-oxide thin film
第 1 著者 氏名(和/英) 安井 寛治 / Kanji Yasui
第 1 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学(略称:長岡技科大)
Nagaoka University of Technology(略称:Nagaoka Univ. Technol.)
発表年月日 2019-11-07
資料番号 CPM2019-48
巻番号(vol) vol.119
号番号(no) CPM-271
ページ範囲 pp.21-26(CPM),
ページ数 6
発行日 2019-10-31 (CPM)