| 講演名 | 2019-11-07 真空蒸着法による硫化アンチモン薄膜堆積 高野 泰(静岡大), 井上 翔(静岡大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | CPM2019-44 |
| 発行日 | 2019-10-31 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2019/11/7(から2日開催) |
| 開催地（和） | 福井大学 文京キャンパス |
| 開催地（英） | Fukui univ. |
| テーマ（和） | 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス，一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 武山 真弓(北見工大) |
| 委員長氏名（英） | Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 副委員長氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 中澤 日出樹(弘前大) |
| 幹事氏名（英） | Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 廣瀬 文彦(山形大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 真空蒸着法による硫化アンチモン薄膜堆積 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Sb2S3 thin films deposited usnig thermal evaporation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 高野 泰 / Yasushi Takano |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学(略称：静岡大) Shizuoka University(略称：Shizuoka Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 井上 翔 / Sho Inoue |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学(略称：静岡大) Shizuoka University(略称：Shizuoka Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-11-07 |
| 資料番号 | CPM2019-44 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | CPM-271 |
| ページ範囲 | pp.1-4(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-10-31 (CPM) |