| 講演名 | 2019-11-15 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 小平 行秀(会津大), 東 梨奈(会津大), 松井 知己(東工大), 高橋 篤司(東工大), 児玉 親亮(キオクシア), |
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| 抄録(和) | 製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する技術を光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC) と呼び，光リソグラフィの進展において重要な役割を担っている．本稿では，マスク最適化問題に対して，ラグランジュ緩和法と劣勾配法を用いることで，プロセスばらつきに対する耐性を持つマスクを生成する手法を提案する．計算機実験において，パタンの忠実度が高く，プロセスばらつきへの耐性が高いマスクを短時間で提案手法により生成可能であることを確認する． |
| 抄録(英) | Due to miniaturization of process technology, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers against designed target patterns by mask optimization, is essential to progress the optical lithography. In this paper, a mask optimization method by using Lagrangean relaxation method and subgradient method is proposed to generate masks with high tolerance against process variation. Experimental results show that the proposed method obtains masks with high shape fidelity and high tolerance against process variation in short computational times. |
| キーワード(和) | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光近接効果補正 / 劣勾配法 / ラグランジュ緩和法 |
| キーワード(英) | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / subgradient method / Lagrangean relaxation method |
| 資料番号 | VLD2019-53,DC2019-77 |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD / DC / CPSY / RECONF / ICD / IE / IPSJ-SLDM / IPSJ-EMB / IPSJ-ARC |
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| 開催期間 | 2019/11/13(から3日開催) |
| 開催地（和） | 愛媛県男女共同参画センター |
| 開催地（英） | Ehime Prefecture Gender Equality Center |
| テーマ（和） | デザインガイア2019 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2019 -New Field of VLSI Design- |
| 委員長氏名（和） | 戸川 望(早大) / 福本 聡(首都大東京) / 入江 英嗣(東大) / 柴田 裕一郎(長崎大) / 永田 真(神戸大) / 木全 英明(NTT) / 田宮 豊(富士通研) / / 井上 弘士(九大) |
| 委員長氏名（英） | Nozomu Togawa(Waseda Univ.) / Satoshi Fukumoto(Tokyo Metropolitan Univ.) / Hidetsugu Irie(Univ. of Tokyo) / Yuichiro Shibata(Nagasaki Univ.) / Makoto Nagata(Kobe Univ.) / Hideaki Kimata(NTT) / Yutaka Tamiya(Fujitsu Lab.) / / Hiroshi Inoue(Kyushu Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 福田 大輔(富士通研) / 高橋 寛(愛媛大) / 鯉渕 道紘(NII) / 中島 耕太(富士通研) / 佐野 健太郎(理研) / 山口 佳樹(筑波大) / 高橋 真史(東芝メモリ) / 児玉 和也(NII) / 高橋 桂太(名大) |
| 副委員長氏名（英） | Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Hiroshi Takahashi(Ehime Univ.) / Michihiro Koibuchi(NII) / Kota Nakajima(Fujitsu Lab.) / Kentaro Sano(RIKEN) / Yoshiki Yamaguchi(Tsukuba Univ.) / Masafumi Takahashi(Toshiba-memory) / Kazuya Kodama(NII) / Keita Takahashi(Nagoya Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 小平 行秀(会津大) / 桜井 祐市(日立) / 新井 雅之(日大) / 難波 一輝(千葉大) / 津邑 公暁(名工大) / 高前田 伸也(北大) / 谷川 一哉(広島市大) / 三好 健文(イーツリーズ・ジャパン) / 夏井 雅典(東北大) / 柘植 政利(ソシオネクスト) / 早瀬 和也(NTT) / 松尾 康孝(NHK) / 土谷 亮(滋賀県大) / 岩崎 裕江(NTT) / 佐々木 通(三菱電機) / / 近藤 正章(東大) / 塩谷 亮太(名大) / 田中 美帆(富士通研) / 長谷川 揚平(東芝メモリ) |
| 幹事氏名（英） | Yukihide Kohira(Univ. of Aizu) / Yuichi Sakurai(Hitachi) / Masayuki Arai(Nihon Univ.) / Kazuteru Namba(Chiba Univ.) / Tomoaki Tsumura(Nagoya Inst. of Tech.) / Shinya Takameda(Hokkaido Univ.) / Kazuya Tanigawa(Hiroshima City Univ.) / Takefumi Miyoshi(e-trees.Japan) / Masanori Natsui(Tohoku Univ.) / Masatoshi Tsuge(Socionext) / Kazuya Hayase(NTT) / Yasutaka Matsuo(NHK) / Akira Tsuchiya(Univ. Shiga Prefecture) / Hiroe Iwasaki(NTT) / Toru Sasaki(Mitsubishi Electric) / / Masaaki Kondo(Univ. of Tokyo) / Ryota Shioya(Nagoya Univ.) / Miho Tanaka(Fujitsu Labs.) / Yohei Hasegawa(Toshiba Memory) |
| 幹事補佐氏名（和） | 池田 一樹(日立) / / 有間 英志(東大) / 小川 周吾(日立) / 小林 悠記(NEC) / 中原 啓貴(東工大) / 廣瀬 哲也(阪大) / 新居 浩二(フローディア) / 久保木 猛(九大) / 海野 恭平(KDDI総合研究所) / 福嶋 慶繁(名工大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Kazuki Ikeda(Hitachi) / / Eiji Arima(Univ. of Tokyo) / Shugo Ogawa(Hitachi) / Yuuki Kobayashi(NEC) / Hiroki Nakahara(Tokyo Inst. of Tech.) / Tetsuya Hirose(Osaka Univ.) / Koji Nii(Floadia) / Takeshi Kuboki(Kyushu Univ.) / Kyohei Unno(KDDI Research) / Norishige Fukushima(Nagoya Inst. of Tech.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Technical Committee on Computer Systems / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Technical Committee on Image Engineering / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology / Special Interest Group on Embedded Systems / Special Interest Group on System Architecture |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Considering Process Variation by Subgradient Method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | 劣勾配法 / subgradient method |
| キーワード(5)（和/英） | ラグランジュ緩和法 / Lagrangean relaxation method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 東 梨奈 / Rina Azuma |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 会津大学(略称：会津大) The University of Aizu(略称：Univ. of Aizu) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松井 知己 / Tomomi Matsui |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学(略称：東工大) Tokyo Institute of Technology(略称：Tokyo Tech) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama |
| 第 5 著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社(略称：キオクシア) KIOXIA Corporation(略称：KIOXIA) |
| 発表年月日 | 2019-11-15 |
| 資料番号 | VLD2019-53,DC2019-77 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | VLD-282,DC-283 |
| ページ範囲 | pp.197-202(VLD), pp.197-202(DC), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) |