| 講演名 | 2019-11-15 配線幅および配線間距離を考慮した特徴量によるリソグラフィホットスポット検出 片岡 岳(広島市大), 稲木 雅人(広島市大), 永山 忍(広島市大), 若林 真一(広島市大), |
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| 抄録(和) | 半導体製造工程の一つであるリソグラフィにおいて発生する，異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンのことをホットスポットと呼ぶ．ホットスポットの検出に用いられるリソグラフィシミュレーションは非常に長い計算時間を要するため，より高速にホットスポットの候補を検出する手法が求められている．近年，高速なホットスポット候補の検出手法として機械学習を用いた手法が注目されている．我々はこれまで，配線の異常な短絡との相関が考えられる，隣接配線間の距離を考慮した特徴量を学習に用いる手法を提案した．本稿では，これを配線の異常な開放との相関が考えられる配線幅の情報を加えた特徴量に拡張し，有効性を確認したことを報告する． |
| 抄録(英) | In lithography, which is one of the semiconductor manufacturing processes, there is a pattern that is highly likely to cause an undesired short- or open-circuit, called a hotspot. Since the lithography simulation used for hotspot detection requires a very long computation time, a method to more quickly detect hotspot candidates is required. In recent years, methods using machine learning have been attracting attention as a method to more quickly detect hotspot candidates. In our previous study, we proposed methods that use feature vectors considering the distance between adjacent wires, which can be correlated with an undesired short-circuit. In this paper, we extend the previously proposed feature vectors to consider the widths of wires, which can be correlated with undesired open-circuits, and confirm its effectiveness. |
| キーワード(和) | リソグラフィ / ホットスポット / 機械学習 / 分類精度 |
| キーワード(英) | lithography / hotspot / machine-learning / classification accuracy |
| 資料番号 | VLD2019-51,DC2019-75 |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD / DC / CPSY / RECONF / ICD / IE / IPSJ-SLDM / IPSJ-EMB / IPSJ-ARC |
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| 開催期間 | 2019/11/13(から3日開催) |
| 開催地（和） | 愛媛県男女共同参画センター |
| 開催地（英） | Ehime Prefecture Gender Equality Center |
| テーマ（和） | デザインガイア2019 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2019 -New Field of VLSI Design- |
| 委員長氏名（和） | 戸川 望(早大) / 福本 聡(首都大東京) / 入江 英嗣(東大) / 柴田 裕一郎(長崎大) / 永田 真(神戸大) / 木全 英明(NTT) / 田宮 豊(富士通研) / / 井上 弘士(九大) |
| 委員長氏名（英） | Nozomu Togawa(Waseda Univ.) / Satoshi Fukumoto(Tokyo Metropolitan Univ.) / Hidetsugu Irie(Univ. of Tokyo) / Yuichiro Shibata(Nagasaki Univ.) / Makoto Nagata(Kobe Univ.) / Hideaki Kimata(NTT) / Yutaka Tamiya(Fujitsu Lab.) / / Hiroshi Inoue(Kyushu Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 福田 大輔(富士通研) / 高橋 寛(愛媛大) / 鯉渕 道紘(NII) / 中島 耕太(富士通研) / 佐野 健太郎(理研) / 山口 佳樹(筑波大) / 高橋 真史(東芝メモリ) / 児玉 和也(NII) / 高橋 桂太(名大) |
| 副委員長氏名（英） | Daisuke Fukuda(Fujitsu Labs.) / Hiroshi Takahashi(Ehime Univ.) / Michihiro Koibuchi(NII) / Kota Nakajima(Fujitsu Lab.) / Kentaro Sano(RIKEN) / Yoshiki Yamaguchi(Tsukuba Univ.) / Masafumi Takahashi(Toshiba-memory) / Kazuya Kodama(NII) / Keita Takahashi(Nagoya Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 小平 行秀(会津大) / 桜井 祐市(日立) / 新井 雅之(日大) / 難波 一輝(千葉大) / 津邑 公暁(名工大) / 高前田 伸也(北大) / 谷川 一哉(広島市大) / 三好 健文(イーツリーズ・ジャパン) / 夏井 雅典(東北大) / 柘植 政利(ソシオネクスト) / 早瀬 和也(NTT) / 松尾 康孝(NHK) / 土谷 亮(滋賀県大) / 岩崎 裕江(NTT) / 佐々木 通(三菱電機) / / 近藤 正章(東大) / 塩谷 亮太(名大) / 田中 美帆(富士通研) / 長谷川 揚平(東芝メモリ) |
| 幹事氏名（英） | Yukihide Kohira(Univ. of Aizu) / Yuichi Sakurai(Hitachi) / Masayuki Arai(Nihon Univ.) / Kazuteru Namba(Chiba Univ.) / Tomoaki Tsumura(Nagoya Inst. of Tech.) / Shinya Takameda(Hokkaido Univ.) / Kazuya Tanigawa(Hiroshima City Univ.) / Takefumi Miyoshi(e-trees.Japan) / Masanori Natsui(Tohoku Univ.) / Masatoshi Tsuge(Socionext) / Kazuya Hayase(NTT) / Yasutaka Matsuo(NHK) / Akira Tsuchiya(Univ. Shiga Prefecture) / Hiroe Iwasaki(NTT) / Toru Sasaki(Mitsubishi Electric) / / Masaaki Kondo(Univ. of Tokyo) / Ryota Shioya(Nagoya Univ.) / Miho Tanaka(Fujitsu Labs.) / Yohei Hasegawa(Toshiba Memory) |
| 幹事補佐氏名（和） | 池田 一樹(日立) / / 有間 英志(東大) / 小川 周吾(日立) / 小林 悠記(NEC) / 中原 啓貴(東工大) / 廣瀬 哲也(阪大) / 新居 浩二(フローディア) / 久保木 猛(九大) / 海野 恭平(KDDI総合研究所) / 福嶋 慶繁(名工大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Kazuki Ikeda(Hitachi) / / Eiji Arima(Univ. of Tokyo) / Shugo Ogawa(Hitachi) / Yuuki Kobayashi(NEC) / Hiroki Nakahara(Tokyo Inst. of Tech.) / Tetsuya Hirose(Osaka Univ.) / Koji Nii(Floadia) / Takeshi Kuboki(Kyushu Univ.) / Kyohei Unno(KDDI Research) / Norishige Fukushima(Nagoya Inst. of Tech.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on VLSI Design Technologies / Technical Committee on Dependable Computing / Technical Committee on Computer Systems / Technical Committee on Reconfigurable Systems / Technical Committee on Integrated Circuits and Devices / Technical Committee on Image Engineering / Special Interest Group on System and LSI Design Methodology / Special Interest Group on Embedded Systems / Special Interest Group on System Architecture |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 配線幅および配線間距離を考慮した特徴量によるリソグラフィホットスポット検出 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Lithography Hotspot Detection Based on Feature Vectors Considering Wire Width and Distance |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| キーワード(2)（和/英） | ホットスポット / hotspot |
| キーワード(3)（和/英） | 機械学習 / machine-learning |
| キーワード(4)（和/英） | 分類精度 / classification accuracy |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 片岡 岳 / Gaku Kataoka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 広島市立大学(略称：広島市大) Hiroshima City University(略称：Hiroshima City Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 稲木 雅人 / Masato Inagi |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 広島市立大学(略称：広島市大) Hiroshima City University(略称：Hiroshima City Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 永山 忍 / Shinobu Nagayama |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 広島市立大学(略称：広島市大) Hiroshima City University(略称：Hiroshima City Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 若林 真一 / Shin'ichi Wakabayashi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 広島市立大学(略称：広島市大) Hiroshima City University(略称：Hiroshima City Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-11-15 |
| 資料番号 | VLD2019-51,DC2019-75 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | VLD-282,DC-283 |
| ページ範囲 | pp.185-190(VLD), pp.185-190(DC), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2019-11-06 (VLD, DC) |