講演名 | 2019-10-23 多層電荷蓄積層を用いたHf系MONOS型不揮発性多値メモリに関する検討 堀内 勇介(東工大), 表 柱栄(東工大), 大見 俊一郎(東工大), |
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資料番号 | SDM2019-58 |
発行日 | 2019-10-16 (SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2019/10/23(から2日開催) |
開催地(和) | 東北大学未来情報産業研究館5F |
開催地(英) | Niche, Tohoku Univ. |
テーマ(和) | プロセス科学と新プロセス技術 |
テーマ(英) | Process Science and New Process Technology |
委員長氏名(和) | 品田 高宏(東北大) |
委員長氏名(英) | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
副委員長氏名(和) | 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) |
副委員長氏名(英) | Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) |
幹事氏名(和) | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) |
幹事氏名(英) | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) |
幹事補佐氏名(和) | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
幹事補佐氏名(英) | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 多層電荷蓄積層を用いたHf系MONOS型不揮発性多値メモリに関する検討 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Investigation of the multi-level operation of Hf-based MONOS nonvolatile memory utilizing multi charge trapping layers |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 堀内 勇介 / Yusuke Horiuchi |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 表 柱栄 / Jooyoung Pyo |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 大見 俊一郎 / Shun-ichiro Ohmi |
第 3 著者 所属(和/英) | 東京工業大学(略称:東工大) Tokyo Institute of Technology(略称:Tokyo Tech.) |
発表年月日 | 2019-10-23 |
資料番号 | SDM2019-58 |
巻番号(vol) | vol.119 |
号番号(no) | SDM-239 |
ページ範囲 | pp.25-28(SDM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2019-10-16 (SDM) |