| 講演名 | 2019-10-24 高SN比CMOS吸光イメージセンサによる半導体プロセスチャンバー内ガス濃度分布計測 髙橋 圭吾(東北大), Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva(東北大), 黒田 理人(東北大), 藤原 康行(東北大), 村田 真麻(東北大), 石井 秀和(東北大), 森本 達郎(東北大), 諏訪 智之(東北大), 寺本 章伸(東北大), 須川 成利(東北大), |
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| 抄録(和) | 70 dB超の信号対雑音比(SN比)と紫外波長帯域において高感度・高耐光性を有する横型オーバーフロー蓄積トレンチ容量(LOFITreC) CMOS吸光イメージセンサを用いたガス濃度イメージングについて報告する．本センサと405 nmのLEDを用いて半導体プロセスチャンバー内に流れるNO2ガス濃度の二次元吸光イメージングを行った．その結果 NO2ガスの良好な検量線の取得とチャンバー内を流れるNO2ガスの濃度分布の撮像に成功した． |
| 抄録(英) | This paper reports on gas concentration imaging using lateral overflow integration trench capacitor(LOFITreC) CMOS absorption image sensor with signal-to-noise ratio (SNR) over 70 dB and high light resistance in the ultraviolet wavelength band. Two-dimensional absorption imaging of the concentration of NO2 gas flowing in a semiconductor process chamber was experimented using the developed sensor and a 405 nm LED light source. As a result, a good calibration curve of NO2 gas was obtained, and the concentration distribution of NO2 gas flowing in a process chamber was visualized. |
| キーワード(和) | 分光イメージング / 濃度センサ / 吸光分析 / CMOSイメージセンサ |
| キーワード(英) | Spectral imaging / Concentration sensor / Absorption spectrometry / CMOS image sensor |
| 資料番号 | SDM2019-66 |
| 発行日 | 2019-10-16 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2019/10/23(から2日開催) |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) |
| 委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) |
| 幹事氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) |
| 幹事氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) |
| 幹事補佐氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 高SN比CMOS吸光イメージセンサによる半導体プロセスチャンバー内ガス濃度分布計測 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Gas concentration distribution measurement in semiconductor process chamber using a high SNR CMOS absorption image sensor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 分光イメージング / Spectral imaging |
| キーワード(2)（和/英） | 濃度センサ / Concentration sensor |
| キーワード(3)（和/英） | 吸光分析 / Absorption spectrometry |
| キーワード(4)（和/英） | CMOSイメージセンサ / CMOS image sensor |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 髙橋 圭吾 / Keigo Takahashi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva / Yhang Ricardo Sipauba Carvalho da Silva |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 黒田 理人 / Rihito Kuroda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 藤原 康行 / Yasuyuki Fujihara |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 村田 真麻 / Maasa Murata |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 石井 秀和 / Hidekazu Ishii |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 森本 達郎 / Tatsuo Morimoto |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 東北大学(略称：東北大) Tohoku University(略称：Tohoku Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-10-24 |
| 資料番号 | SDM2019-66 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | SDM-239 |
| ページ範囲 | pp.65-68(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-10-16 (SDM) |