| 講演名 | 2019-08-26 スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 清水 英彦(新潟大), 岩野 春男(新潟大), 川上 貴浩(新潟大), 福嶋 康夫(新潟大), 永田 向太郎(新潟大), |
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| 抄録(和) | 本検討では，1500℃及び1600℃にて焼結させたZnOに2wt.%のAl2O3を添加した導電性を有するAZO焼結体を作製するとともに，それをターゲットに用い，DC放電によるマグネトロンスパッタ法により，AZO膜の作製を行った。その結果，可視光領域において，80%以上の透過率を有する膜を得ることができた。また，焼結温度1600℃のターゲットを用いて，基板温度200℃にて膜堆積を行うと，約8×10-4 Ω・cmの膜を得ることができることものの，7×10-4 Ω・cmより小さい抵抗率のAZO薄膜を得ることができなかった。 |
| 抄録(英) | In this study, AZO conductive oxide sintered bodies with 2wt.% Al2O3 added to ZnO were prepared at sintering temperature of 1500 ℃ and 1600 ℃. And deposition of AZO films was attempted by the conventional DC-magnetron sputtering method using these sintered bodies as targets. As a result, all of deposited films had a transmittance more than 80% with visible light region. The film deposited at a substrate temperature of 200℃ using a target with a sintering temperature of 1600℃ had about 8×10-4 Ω・cm. But, an AZO film with a resistivity less than 7×10-4 Ω・cm was not obtained in this study. |
| キーワード(和) | AZO / 焼結体 / 薄膜 / マグネトロンスパッタ法 |
| キーワード(英) | AZO / Sintered body / Thin film / Magnetron sputtering |
| 資料番号 | CPM2019-39 |
| 発行日 | 2019-08-19 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2019/8/26(から1日開催) |
| 開催地（和） | 北見工業大学 1号館２F A-207講義室 |
| 開催地（英） | Kitami Institute of Technology |
| テーマ（和） | 電子部品・材料、一般 |
| テーマ（英） | Component Parts and Materials, etc. |
| 委員長氏名（和） | 武山 真弓(北見工大) |
| 委員長氏名（英） | Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 副委員長氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) |
| 副委員長氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 中澤 日出樹(弘前大) |
| 幹事氏名（英） | Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 寺迫 智昭(愛媛大) / 廣瀬 文彦(山形大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of conductive oxide sintered targets for AZO thin films deposited by sputtering method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | AZO / AZO |
| キーワード(2)（和/英） | 焼結体 / Sintered body |
| キーワード(3)（和/英） | 薄膜 / Thin film |
| キーワード(4)（和/英） | マグネトロンスパッタ法 / Magnetron sputtering |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岩野 春男 / Haruo Iwano |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 福嶋 康夫 / Yasuo Fukushima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 永田 向太郎 / Koutaro Nagata |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-08-26 |
| 資料番号 | CPM2019-39 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | CPM-181 |
| ページ範囲 | pp.9-12(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-08-19 (CPM) |