講演名 | 2019-05-17 窒化物半導体集積回路プロセスの検討 岡田 浩(豊橋技科大), 横山 太一(豊橋技科大), 三輪 清允(豊橋技科大), 山根 啓輔(豊橋技科大), 若原 昭浩(豊橋技科大), 関口 寛人(豊橋技科大), |
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資料番号 | ED2019-26,CPM2019-17,SDM2019-24 |
発行日 | 2019-05-09 (ED, CPM, SDM) |
研究会情報 | |
研究会 | SDM / ED / CPM |
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開催期間 | 2019/5/16(から2日開催) |
開催地(和) | 静岡大学(浜松) |
開催地(英) | Shizuoka Univ. (Hamamatsu) |
テーマ(和) | 機能性デバイス材料・作製・特性評価および関連技術 |
テーマ(英) | Materials, Fabrication, and Characterization of Functional Devices, and Related Technology |
委員長氏名(和) | 品田 高宏(東北大) / 津田 邦男(東芝インフラシステムズ) / 廣瀬 文彦(山形大) |
委員長氏名(英) | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) / Kunio Tsuda(Toshiba) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
副委員長氏名(和) | 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) / 須原 理彦(首都大) / 武山 真弓(北見工大) |
副委員長氏名(英) | Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) / Michihiko Suhara(TMU) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
幹事氏名(和) | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) / 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
幹事氏名(英) | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) / Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
幹事補佐氏名(和) | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) / 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小谷 淳二(富士通研) / 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
幹事補佐氏名(英) | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) / Tatsuya Iwata(TUT) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Component Parts and Materials |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 窒化物半導体集積回路プロセスの検討 |
サブタイトル(和) | Siイオン注入による閾値制御の試み |
タイトル(英) | Study of Fabrication Process for Nitride-based Semiconductor Integrated Circuits |
サブタイトル(和) | Threshold voltage control by Si-ion implantation |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 岡田 浩 / Hiroshi Okada |
第 1 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
第 2 著者 氏名(和/英) | 横山 太一 / Taichi Yokoyama |
第 2 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
第 3 著者 氏名(和/英) | 三輪 清允 / Kiyomasa Miwa |
第 3 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
第 4 著者 氏名(和/英) | 山根 啓輔 / Keisuke Yamane |
第 4 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
第 5 著者 氏名(和/英) | 若原 昭浩 / Akihiro Wakahara |
第 5 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
第 6 著者 氏名(和/英) | 関口 寛人 / Hiroto Sekiguchi |
第 6 著者 所属(和/英) | 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大) Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.) |
発表年月日 | 2019-05-17 |
資料番号 | ED2019-26,CPM2019-17,SDM2019-24 |
巻番号(vol) | vol.119 |
号番号(no) | ED-34,CPM-35,SDM-36 |
ページ範囲 | pp.77-80(ED), pp.77-80(CPM), pp.77-80(SDM), |
ページ数 | 4 |
発行日 | 2019-05-09 (ED, CPM, SDM) |