講演名 2019-05-17
窒化物半導体集積回路プロセスの検討
岡田 浩(豊橋技科大), 横山 太一(豊橋技科大), 三輪 清允(豊橋技科大), 山根 啓輔(豊橋技科大), 若原 昭浩(豊橋技科大), 関口 寛人(豊橋技科大),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 ED2019-26,CPM2019-17,SDM2019-24
発行日 2019-05-09 (ED, CPM, SDM)

研究会情報
研究会 SDM / ED / CPM
開催期間 2019/5/16(から2日開催)
開催地(和) 静岡大学(浜松)
開催地(英) Shizuoka Univ. (Hamamatsu)
テーマ(和) 機能性デバイス材料・作製・特性評価および関連技術
テーマ(英) Materials, Fabrication, and Characterization of Functional Devices, and Related Technology
委員長氏名(和) 品田 高宏(東北大) / 津田 邦男(東芝インフラシステムズ) / 廣瀬 文彦(山形大)
委員長氏名(英) Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) / Kunio Tsuda(Toshiba) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.)
副委員長氏名(和) 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) / 須原 理彦(首都大) / 武山 真弓(北見工大)
副委員長氏名(英) Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) / Michihiko Suhara(TMU) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.)
幹事氏名(和) 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) / 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ)
幹事氏名(英) Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) / Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT)
幹事補佐氏名(和) 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) / 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小谷 淳二(富士通研) / 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大)
幹事補佐氏名(英) Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) / Tatsuya Iwata(TUT) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Component Parts and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) 窒化物半導体集積回路プロセスの検討
サブタイトル(和) Siイオン注入による閾値制御の試み
タイトル(英) Study of Fabrication Process for Nitride-based Semiconductor Integrated Circuits
サブタイトル(和) Threshold voltage control by Si-ion implantation
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 岡田 浩 / Hiroshi Okada
第 1 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
第 2 著者 氏名(和/英) 横山 太一 / Taichi Yokoyama
第 2 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
第 3 著者 氏名(和/英) 三輪 清允 / Kiyomasa Miwa
第 3 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
第 4 著者 氏名(和/英) 山根 啓輔 / Keisuke Yamane
第 4 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
第 5 著者 氏名(和/英) 若原 昭浩 / Akihiro Wakahara
第 5 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
第 6 著者 氏名(和/英) 関口 寛人 / Hiroto Sekiguchi
第 6 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学(略称:豊橋技科大)
Toyohashi University of Technology(略称:Toyohashi Tech.)
発表年月日 2019-05-17
資料番号 ED2019-26,CPM2019-17,SDM2019-24
巻番号(vol) vol.119
号番号(no) ED-34,CPM-35,SDM-36
ページ範囲 pp.77-80(ED), pp.77-80(CPM), pp.77-80(SDM),
ページ数 4
発行日 2019-05-09 (ED, CPM, SDM)