講演名 2019-02-27
SIM型SADPのための環状の配線経路を求める拡大手法
赤塚 駿(東京農工大), 藤吉 邦洋(東京農工大),
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抄録(和) 高密度なLSI製造のために、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行う技術として用いられるダブルパターニングの種類の中で、微細加工が更に進むと有用になるのではと考えられているSpacer-Is-Metal (SIM)型Self-Aligned Double Patterning (SADP)の配線は、環状の経路から切り出したものでなければならないため、分岐ができず、設計が非常に難しい。本稿では、この問題に対して、ネットの端子の位置関係を表すグラフが閉路構造、または一部の例外を除く木構造になる入力なら必ず配線経路を求められるという十分条件を求め、条件を満たした配線手法を提案した。また、木構造における例外への拡張を考えた。
抄録(英) Wires of Spacer-Is-Metal (SIM) type Self-Aligned Double Patterning (SADP) is peculiar since wires is circular when dummy wires are appended. Therefore any wire cannot be branched and the design of such wires is very difficult. We revealed two sufficient conditions for the existence of routing for interconnection requirements. We proposed a routing algorithm for interconnection requirements which satisfy the conditions. Finally, we relax the sufficient condition.
キーワード(和) ダブルパターニング / SADP / SIM型SADP / 十分条件
キーワード(英) Double Patterning / SADP / Spacer-Is-Metal type SADP / Self-Aligned Double Patterning / Sufficient condition
資料番号 VLD2018-98,HWS2018-61
発行日 2019-02-20 (VLD, HWS)

研究会情報
研究会 HWS / VLD
開催期間 2019/2/27(から4日開催)
開催地(和) 沖縄県青年会館
開催地(英) Okinawa Ken Seinen Kaikan
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon, Hardware Security, etc.
委員長氏名(和) 松本 勉(横浜国大) / 峯岸 孝行(三菱電機)
委員長氏名(英) Tsutomu Matsumoto(Yokohama National Univ.) / Noriyuki Minegishi(Mitsubishi Electric)
副委員長氏名(和) 川村 信一(東芝) / 池田 誠(東大) / 戸川 望(早大)
副委員長氏名(英) Shinichi Kawamura(Toshiba) / Makoto Ikeda(Univ. of Tokyo) / Nozomu Togawa(Waseda Univ.)
幹事氏名(和) 三浦 典之(神戸大) / 国井 裕樹(セコム) / 新田 高庸(NTT) / 小平 行秀(会津大)
幹事氏名(英) Noriyuki Miura(Kobe Univ.) / Hiroki Kunii(SECOM) / Koyo Nitta(NTT) / Yukihide Kohira(Univ. of Aizu)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Hardware Security / Technical Committee on VLSI Design Technologies
本文の言語 JPN
タイトル(和) SIM型SADPのための環状の配線経路を求める拡大手法
サブタイトル(和)
タイトル(英) Routing Algorithm to Achieve Circular Wire for SIM-Type SADP
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ダブルパターニング / Double Patterning
キーワード(2)(和/英) SADP / SADP
キーワード(3)(和/英) SIM型SADP / Spacer-Is-Metal type SADP
キーワード(4)(和/英) 十分条件 / Self-Aligned Double Patterning
キーワード(5)(和/英) / Sufficient condition
第 1 著者 氏名(和/英) 赤塚 駿 / Shun Akatsuka
第 1 著者 所属(和/英) 東京農工大(略称:東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology(略称:TUAT)
第 2 著者 氏名(和/英) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi
第 2 著者 所属(和/英) 東京農工大(略称:東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology(略称:TUAT)
発表年月日 2019-02-27
資料番号 VLD2018-98,HWS2018-61
巻番号(vol) vol.118
号番号(no) VLD-457,HWS-458
ページ範囲 pp.31-36(VLD), pp.31-36(HWS),
ページ数 6
発行日 2019-02-20 (VLD, HWS)