講演名 2019-02-07
[招待講演]めっき銅薄膜配線の機械特性とEM耐性の結晶粒界品質依存性
? ?凡(東北大), 名越 優太郎(東北大), 水野 涼太(東北大), 鈴木 研(東北大), 三浦 英生(東北大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 SDM2018-94
発行日 2019-01-31 (SDM)

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2019/2/7(から1日開催)
開催地(和) 東京大学/本郷 工学部4号館 42講義室
開催地(英)
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術
テーマ(英) Backend / Assembly and Related materials technology
委員長氏名(和) 品田 高宏(東北大)
委員長氏名(英) Takahiro Shinada(Tohoku Univ.)
副委員長氏名(和) 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ)
副委員長氏名(英) Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic)
幹事氏名(和) 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー)
幹事氏名(英) Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY)
幹事補佐氏名(和) 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大)
幹事補佐氏名(英) Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Silicon Device and Materials
本文の言語 JPN
タイトル(和) [招待講演]めっき銅薄膜配線の機械特性とEM耐性の結晶粒界品質依存性
サブタイトル(和)
タイトル(英) [Invited Talk] Grain-Boundary-Crystallinity Dependence of Mechanical Properties and EM Resistance of Electroplated Copper Interconnections
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) ? ?凡 / Yifan Luo
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学(略称:東北大)
Tohoku University(略称:Tohoku Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 名越 優太郎 / Yutaro Nakoshi
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学(略称:東北大)
Tohoku University(略称:Tohoku Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 水野 涼太 / Ryota Mizuno
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学(略称:東北大)
Tohoku University(略称:Tohoku Univ.)
第 4 著者 氏名(和/英) 鈴木 研 / Ken Suzuki
第 4 著者 所属(和/英) 東北大学(略称:東北大)
Tohoku University(略称:Tohoku Univ.)
第 5 著者 氏名(和/英) 三浦 英生 / Hideo Miura
第 5 著者 所属(和/英) 東北大学(略称:東北大)
Tohoku University(略称:Tohoku Univ.)
発表年月日 2019-02-07
資料番号 SDM2018-94
巻番号(vol) vol.118
号番号(no) SDM-438
ページ範囲 pp.15-18(SDM),
ページ数 4
発行日 2019-01-31 (SDM)