| 講演名 | 2019-02-07 ［招待講演］微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜 岡田 直也(産総研), 内田 紀行(産総研), 小川 真一(産総研), 金山 敏彦(産総研), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2018-96 |
| 発行日 | 2019-01-31 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2019/2/7(から1日開催) |
| 開催地（和） | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 配線・実装技術と関連材料技術 |
| テーマ（英） | Backend / Assembly and Related materials technology |
| 委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) |
| 委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) |
| 幹事氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) |
| 幹事氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) |
| 幹事補佐氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ［招待講演］微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | [Invited Talk] New contact material for advanced CMOS: cluster-preforming-deposited amorphous Si-rich W silicide film |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 岡田 直也 / Naoya Okada |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial Science & Technology(略称：AIST) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 内田 紀行 / Noriyuki Uchida |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial Science & Technology(略称：AIST) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 小川 真一 / Shinichi Ogawa |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial Science & Technology(略称：AIST) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 金山 敏彦 / Toshihiko Kanayama |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所(略称：産総研) National Institute of Advanced Industrial Science & Technology(略称：AIST) |
| 発表年月日 | 2019-02-07 |
| 資料番号 | SDM2018-96 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | SDM-438 |
| ページ範囲 | pp.23-26(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-01-31 (SDM) |