情報・システム-画像工学(開催日:2015/10/29)

タイトル/著者/発表日/資料番号
[招待講演]フラッシュメモリとCMOSロジックの近接混載技術による低消費電力・高速FPGA

財津 光一郎(東芝),  辰村 光介(東芝),  松本 麻里(東芝),  小田 聖翔(東芝),  安田 心一(東芝),  

[発表日]2015-10-29
[資料番号]SDM2015-75
[招待講演]イオン注入技術の現状と課題

中島 良樹(日新イオン機器),  濱本 成顕(日新イオン機器),  酒井 滋樹(日新イオン機器),  おの田 博(日新イオン機器),  

[発表日]2015-10-29
[資料番号]SDM2015-71
Ar/H2混合ガス熱処理によるSi表面平坦化プロセスの検討

工藤 聡也(東工大),  大見 俊一郎(東工大),  

[発表日]2015-10-29
[資料番号]SDM2015-72
原子オーダー平坦なゲート絶縁膜/シリコン界面を導入したMOSFETの電気的特性

後藤 哲也(東北大),  黒田 理人(東北大),  諏訪 智之(東北大),  寺本 章伸(東北大),  小原 俊樹(東北大),  木本 大幾(東北大),  須川 成利(東北大),  鎌田 浩(ラピスセミコンダクタ宮城),  熊谷 勇喜(ラピスセミコンダクタ宮城),  渋沢 勝彦(ラピスセミコンダクタ宮城),  

[発表日]2015-10-29
[資料番号]SDM2015-74
Xe/H2プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術

諏訪 智之(東北大),  寺本 章伸(東北大),  後藤 哲也(東北大),  平山 昌樹(東北大),  須川 成利(東北大),  大見 忠弘(東北大),  

[発表日]2015-10-29
[資料番号]SDM2015-73
[招待講演]マイクロ波励起プラズマによる立体構造体への等方均一注入技術

上田 博一(TEL TDC),  ピーター ベントゼック(TEL AMERICA),  岡 正浩(TEL TDC),  小林 勇気(TEL TDC),  杉本 靖広(TEL TDC),  川上 聡(TEL TDC),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-76
[招待講演]大画面シート型ディスプレイ実現に向けたディスプレイ材料・プロセス技術

藤崎 好英(NHK),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-79
HfO2をゲート絶縁膜に用いたペンタセンOFETのデバイス特性に関する検討

前田 康貴(東工大),  劉 野原(東工大),  大見 俊一郎(東工大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-80
トンネル電流・拡散電流併用MOSFETのデバイスシミュレーション検討

古川 貴一(東北大),  寺本 章伸(東北大),  黒田 理人(東北大),  諏訪 智之(東北大),  橋本 圭市(東北大),  小尻 尚志(東北大),  須川 成利(東北大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-77
酸素ラジカル処理を用いた強誘電体BiFeO3薄膜の形成技術

今泉 文伸(東北大),  後藤 哲也(東北大),  寺本 章伸(東北大),  須川 成利(東北大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-78
窒素添加LaB6ターゲットによる低仕事関数LaB6スパッタ薄膜の形成

石井 秀和(東北大),  高橋 健太郎(住友大阪セメント),  後藤 哲也(東北大),  須川 成利(東北大),  大見 忠弘(東北大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-81
Investigation of stacked HfN gate insulator formed by ECR plasma sputtering

ニティ アッティ(東工大),  大見 俊一郎(東工大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-82
高精度ガス制御器を用いたAl2O3のALD成膜におけるプロセス温度の検討

杉田 久哉(東北大),  幸田 安真(東北大),  諏訪 智之(東北大),  黒田 理人(東北大),  後藤 哲也(東北大),  石井 秀和(東北大),  山下 哲(フジキン),  寺本 章伸(東北大),  須川 成利(東北大),  大見 忠弘(東北大),  

[発表日]2015-10-30
[資料番号]SDM2015-83