エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2015/05/28)

タイトル/著者/発表日/資料番号
高移動度β-Ga2O3(-201)単結晶を用いたショットキーバリアダイオードの作製

古賀 優太(佐賀大),  原田 和也(佐賀大),  花田 賢志(佐賀大),  大石 敏之(佐賀大),  嘉数 誠(佐賀大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-22,CPM2015-7,SDM2015-24
Al2O3絶縁膜を有するNO2吸着H終端処理ダイヤモンドFETのデバイスシミュレーション

大石 敏之(佐賀大),  東 竜太郎(佐賀大),  原田 和也(佐賀大),  古賀 優太(佐賀大),  平間 一行(NTT),  嘉数 誠(佐賀大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-24,CPM2015-9,SDM2015-26
自由電子レーザー照射による面内配向単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御の可能性

川口 大貴(日大),  吉田 圭佑(日大),  小林 弥生(日大),  春宮 清之介(日大),  永田 知子(日大),  山本 寛(日大),  岩田 展幸(日大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-25,CPM2015-10,SDM2015-27
サファイア基板上におけるCo/Pt/r面配向Cr2O3積層膜の成膜条件最適化

隅田 貴士(日大),  橋本 浩佑(日大),  福井 慎二郎(日大),  永田 知子(日大),  山本 寛(日大),  岩田 展幸(日大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-26,CPM2015-11,SDM2015-28
SiC基板表面における浸漬法による自己組織化膜形成

鈴木 悠矢(名工大),  広瀬 雄治(名工大),  玉置 祥平(名工大),  宮川 鈴衣奈(名工大),  木下 隆利(名工大),  江龍 修(名工大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-18,CPM2015-3,SDM2015-20
コランダム構造酸化物半導体の成長とMOSFET試作

伊藤 義人(京大),  金子 健太郎(京大),  藤田 静雄(京大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-21,CPM2015-6,SDM2015-23
表面窒化を用いたGaAsN混晶のN組成制御

浦上 法之(豊橋技科大),  山根 啓輔(豊橋技科大),  関口 寛人(豊橋技科大),  岡田 浩(豊橋技科大),  若原 昭浩(豊橋技科大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-20,CPM2015-5,SDM2015-22
浮遊電極測定を用いたGaNショットキーバリアダイオードの順方向特性の解析

山口 修造(佐賀大),  大石 敏之(佐賀大),  山口 裕太郎(三菱電機),  山中 宏治(三菱電機),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-23,CPM2015-8,SDM2015-25
マイクロ波表面波プラズマCVDによる多数層グラフェン合成と紫外光カットによる高品質化

市村 進(中部大),  内田 秀雄(中部大),  脇田 紘一(中部大),  林 靖彦(岡山大),  梅野 正義(中部大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-17,CPM2015-2,SDM2015-19
分子線エピタキシー法により成長したInGaNナノプレートの光学特性

光野 徹也(静岡大),  酒井 優(山梨大),  岸野 克巳(上智大),  原 和彦(静岡大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-19,CPM2015-4,SDM2015-21
液体原料を用いた熱CVDによるグラフェンの合成

岸 直希(名工大),  岩田 鷹明(名工大),  岩間 一樹(名工大),  包 建峰(名工大),  劉 会濤(名工大),  曽我 哲夫(名工大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]ED2015-16,CPM2015-1,SDM2015-18
Semi-polar GaN (10-13) grown on nominal Si (001) substrate with sputtered AlN buffer layer

李 浩準(名大),  光成 正(名大),  本田 善央(名大),  天野 浩(名大),  

[発表日]2015-05-28
[資料番号]
分光電気化学法によるGaN/電解液界面の評価とナノ構造形成への応用

熊崎 祐介(北大),  渡部 晃生(北大),  谷田部 然治(北大),  佐藤 威友(北大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-28,CPM2015-13,SDM2015-30
溶液成長法によるSnS堆積量と撹拌の関係

鈴木 大司(静岡大),  高野 泰(静岡大),  石田 明広(静岡大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-32,CPM2015-17,SDM2015-34
ピクセル間感度差に基づく溶液電位の算出によるガラス管参照電極を不要とするpHイメージセンサ

渡邊 愼(豊橋技科大),  太齋 文博(豊橋技科大),  岩田 達哉(豊橋技科大),  石田 誠(豊橋技科大),  服部 敏明(豊橋技科大),  澤田 和明(豊橋技科大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-27,CPM2015-12,SDM2015-29
電気化学堆積CuxZnyS薄膜の熱処理

トン バインガルディ(名工大),  市村 正也(名工大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-31,CPM2015-16,SDM2015-33
4H-SiC表面再結合速度の温度依存性の定量的評価

小濱 公洋(名工大),  森 祐人(名工大),  加藤 正史(名工大),  市村 正也(名工大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-30,CPM2015-15,SDM2015-32
電気化学堆積法によるCu2O/Fe-Oヘテロ接合太陽電池の作製

張 朝龍(名工大),  Junie Jhon M. Vequizo(豊田工大),  市村 正也(名工大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-33,CPM2015-18,SDM2015-35
電気化学堆積硫化鉄薄膜の硫黄アニール処理とZnOとのヘテロ接合への応用

梶間 崇宏(名工大),  川井 正一(デンソー),  市村 正也(名工大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-34,CPM2015-19,SDM2015-36
マイクロ流路チップ中でのレジオネラの運動制限による蛍光観測

西村 祐典(豊橋技科大),  林 隆平(豊橋技科大),  中澤 寛一(豊橋技科大),  石田 誠(豊橋技科大),  澤田 和明(豊橋技科大),  石井 仁(豊橋技科大),  町田 克之(東工大/NTT-AT),  益 一哉(東工大),  王 常楽(九大),  飯田 健一郎(九大),  齋藤 光正(九大),  吉田 眞一(九大),  

[発表日]2015-05-29
[資料番号]ED2015-35,CPM2015-20,SDM2015-37
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