エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2014/12/05)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2014/12/5
[資料番号]
目次

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[発表日]2014/12/5
[資料番号]
長方形断面Geナノワイヤの正孔移動度の断面形状およびサイズ依存性(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

田中 一,  森 誠悟,  森岡 直也,  須田 淳,  木本 恒暢,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-13,SDM2014-108
pチャネルSiナノワイヤMOSFETの移動度の結晶方位および断面形状依存性(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

藤原 寛朗,  森岡 直也,  田中 一,  須田 淳,  木本 恒暢,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-14,SDM2014-109
B^+およびB_<10>H_<14>^+注入Si基板の軟X線照射による活性化(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

部家 彰,  草壁 史,  平野 翔大,  松尾 直人,  神田 一浩,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-15,SDM2014-110
DNAメモリトランジスタの電荷保持機構と伝導機構(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

中村 昇平,  松尾 直人,  部家 彰,  山名 一成,  高田 忠雄,  福山 正隆,  横山 新,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-16,SDM2014-111
炭素系多原子分子イオンのシリコンへの照射効果(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

竹内 光明,  林 恭平,  龍頭 啓充,  高岡 義寛,  永山 勉,  松田 耕自,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-17,SDM2014-112
エレクトロルミネッセンス(EL)発光強度を用いたシリコン太陽電池モジュールの機能解析(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

富本 剛史,  都築 翔太,  谷 あゆみ,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-18,SDM2014-113
ボロン含有シリコンナノインクを用いたレーザードーピングによる高効率シリコン太陽電池への応用(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

真鍋 満顕,  阪川 秀紀,  西村 英紀,  富澤 由香,  池田 吉紀 /,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-19,SDM2014-114
電界効果型マイクロウォール太陽電池(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

大木 康平,  若宮 彰太,  小林 孝裕,  部家 彰,  松尾 直人,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-20,SDM2014-115
n-ch,p-ch,pin-ch poly-Si TFPTの光伝導性の評価(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

渕矢 剛宏,  前田 善春,  門目 尭之,  田中 匠,  松田 時宜,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-21,SDM2014-116
N型・P型・PIN型薄膜フォトトランジスタを用いた周波数変調型フォトセンサの特性比較(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

前田 善春,  渕矢 剛宏,  門目 尭之,  田中 匠,  春木 翔太,  松田 時宜,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-22,SDM2014-117
スパッタリングより形成したHfO_2膜をゲート絶縁膜とするCLC低温Poly-Si TFT(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

目黒 達也,  原 明人,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-23,SDM2014-118
Poly-Si TFTを用いたハイブリッド型温度センサの特性比較(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

木藤 克哉,  林 久志,  北島 秀平,  松田 時宜,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-24,SDM2014-119
Poly-Si TFTを用いた同期回路と非同期回路の特性評価(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

永瀬 洋介,  松田 時宜,  木村 睦,  松本 健俊,  小林 光,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-25,SDM2014-120
レーザーアニールによる非晶質基板上への(111)面配向多結晶ゲルマニウム薄膜の形成(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

高尾 透,  堀田 昌宏,  石河 泰明,  浦岡 行治,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-26,SDM2014-121
ゲート付きPoly-Si Hall素子とIGZO Hall素子による磁場センサの研究開発(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

松本 貴明,  吉川 貴明,  宮村 祥吾,  志賀 春紀,  松田 時宜,  木村 睦,  小澤 徳郎,  青木 幸司,  郭 志徹,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-27,SDM2014-122
GaSnO薄膜の特性評価(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

加藤 雄太,  西本 大樹,  松田 時宜,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-28,SDM2014-123
IGZO薄膜に対する成膜条件による影響(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

西野 克弥,  高橋 宏太,  松田 時宜,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-29,SDM2014-124
ITZO TFTを用いたタッチパネル回路の特性解析(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)

古我 祐貴,  松田 時宜,  古田 守,  木村 睦,  

[発表日]2014/12/5
[資料番号]EID2014-30,SDM2014-125
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