エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2010/12/10)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2010/12/10
[資料番号]
目次

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[発表日]2010/12/10
[資料番号]
MOSFETのしきい値電圧および理論計算から求めた<100>Siナノワイヤのバンドギャップ(シリコン関連材料の作製と評価)

吉岡 裕典,  森岡 直也,  須田 淳,  木本 恒暢,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-185
X線検出素子(Silicon Drift Detector)用Si基板の高抵抗率化 : シミュレーションによる評価(シリコン関連材料の作製と評価)

北野谷 征吾,  西川 誠二,  松浦 秀治,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-186
イオンチャネリングによるホイスラー合金Fe_<3-x>Mn_xSi(111)/Ge(111)ヘテロエピタキシャル界面の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価)

中島 孝仁,  松倉 武偉,  鳴海 一雅,  前田 佳均,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-187
蛍光体粉末の微粒化処理によるZnS無機ELの発光特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)

堀口 昌吾,  紺谷 拓哉,  堀田 昌宏,  田口 信義,  浦岡 行治,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-188
多結晶シリコン太陽電池の作製における室温レーザードーピング(シリコン関連材料の作製と評価)

長谷川 光洋,  平田 憲司,  高山 環,  舟谷 友宏,  冬木 隆,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-189
結晶系シリコン太陽電池におけるドーパントプレカーサー制御によるレーザードーピングプロセスの最適化(シリコン関連材料の作製と評価)

舟谷 友宏,  平田 憲司,  高山 環,  長谷川 光洋,  冬木 隆,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-190
ナノ構造シリコンヘのH_2-N_2プラズマ処理効果(シリコン関連材料の作製と評価)

渡辺 晃次,  須田 健一,  仲田 英起,  本橋 光也,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-191
ReRAMの物性評価と基本メモリ特性の制御(シリコン関連材料の作製と評価)

木下 健太郎,  依田 貴稔,  田中 隼人,  花田 明紘,  岸田 悟,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-192
真空中での熱処理によるPt/NiO/Pt抵抗変化素子の電気的特性変化(シリコン関連材料の作製と評価)

岩田 達哉,  西 佑介,  木本 恒暢,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-193
放電電流過渡分光法を用いた高純度半絶縁性4H-SiCの欠陥評価における犠牲酸化処理の効果(シリコン関連材料の作製と評価)

西川 誠二,  北野谷 征吾,  松浦 秀治,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-194
200kev電子線照射による4H-SiCエピ膜中の多数キャリア密度の変化(シリコン関連材料の作製と評価)

野尻 琢慎,  西野 公三,  柳澤 英樹,  松浦 秀治,  小野田 忍,  大島 武,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-195
超臨界水で酸化したSiC基板表面とその膜質評価(シリコン関連材料の作製と評価)

佐藤 智久,  ニツ木 高志,  大江 太郎,  小松 直佳,  鎌倉 良成,  木村 千春,  青木 秀充,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-196
多原子分子イオンビームによるシリコン表面照射効果(シリコン関連材料の作製と評価)

竹内 光明,  龍頭 啓充,  高岡 義寛,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-197
ホトルミネセンス法およびDLTS法によるシリコン極浅接合の再結晶化過程の評価(シリコン関連材料の作製と評価)

奥谷 真士,  高島 周平,  吉本 昌広 /,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-198
ガラス上に形成された大粒径を有する低温poly-Si_<1-x>Ge_x薄膜トランジスタの開発(シリコン関連材料の作製と評価)

岡部 泰典,  近藤 健二,  広瀬 研太,  鈴木 順季,  北原 邦紀,  原 明人,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-199
裏面からのレーザー照射による2層同時結晶化LTPS-TFTメモリの特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)

松江 将博,  市川 和典,  赤松 浩,  山崎 浩司,  堀田 昌宏,  浦岡 行治,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-200
Siゲートを持つDNA電界効果トランジスタに関する研究(シリコン関連材料の作製と評価)

高城 祥吾,  松尾 直人,  山名 一成,  部家 彰,  高田 忠雄,  坂本 憲児,  横山 新,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-201
Poly-Si TFTによるデバイスレベルのニューラルネットワーク : 複数回の学習とAND・OR・EXORの学習(シリコン関連材料の作製と評価)

宮谷 友彰,  藤田 悠佑,  三島 大樹,  谷口 仁,  笠川 知洋,  木村 睦,  

[発表日]2010/12/10
[資料番号]SDM2010-202
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