エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2009/10/22)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2009/10/22
[資料番号]
目次

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[発表日]2009/10/22
[資料番号]
n^+-、p^+-Si領域に最適なシリサイドを用いた高電流駆動能力トランジスタ(プロセス科学と新プロセス技術)

中尾 幸久,  黒田 理人,  田中 宏明,  寺本 章伸,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-117
2段階シリサイド化によるHf混晶化PtSiの耐熱性向上に関する検討(プロセス科学と新プロセス技術)

高 峻,  石川 純平,  大見 俊一郎,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-118
ECRスパッタ法によるHfN/HfON積層構造の形成(プロセス科学と新プロセス技術)

佐野 貴洋,  大西 峻人,  大見 俊一郎,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-119
3次元チップ積層のためのウェットエッチングによるシリコンウェーハの薄化技術(プロセス科学と新プロセス技術)

吉川 和博,  大橋 朋貢,  吉田 達朗,  根本 剛直,  大見 忠弘,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-120
Tribological Study for Low Shear Force CMP Process on Damascene Interconnects

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[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-121
SOI基板を用いたSi-MESFETの電流電圧特性(プロセス科学と新プロセス技術)

阿部 俊幸,  田主 裕一朗,  黒木 伸一郎,  小谷 光司,  伊藤 隆司,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-122
大規模アレイTEGを用いた長時間測定によるランダム・テレグラフ・シグナルの統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)

藤澤 孝文,  阿部 健一,  渡部 俊一,  宮本 直人,  寺本 章伸,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-123
ルミネッセンス計算化学による共役系高分子中のキャリア移動の解析(プロセス科学と新プロセス技術)

山下 格,  芹澤 和実,  大沼 宏彰,  鈴木 愛,  三浦 隆治,  坪井 秀行,  畠山 望,  遠藤 明,  高羽 洋充,  久保 百司,  宮本 明,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-124
プラズマディスプレイ用電極保護膜の高性能化に向けた計算機シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)

芹澤 和実,  大沼 宏彰,  菊地 宏美,  末貞 和真,  北垣 昌規,  山下 格,  鈴木 愛,  坪井 秀行,  畠山 望,  遠藤 明,  高羽 洋充,  久保 百司,  梶山 博司,  宮本 明,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-125
量子化学計算とQSPR法とによるEu^<2+>付活蛍光体の発光ピーク波長予測(プロセス科学と新プロセス技術)

大沼 宏彰,  山下 格,  芹澤 和実,  鈴木 愛,  坪井 秀行,  畠山 望,  遠藤 明,  高羽 洋充,  久保 百司,  宮本 明,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-126
Investigation of characteristics of pentacene-based MOSFETs structures

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[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-127
ヒートガスアニールによるガラス基板上の非晶質シリコン薄膜の結晶化(プロセス科学と新プロセス技術)

田主 裕一朗,  河野 陽輔,  黒木 伸一郎,  小谷 光司,  村 直美,  山上 公久,  古村 雄二,  伊藤 隆司,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-128
ゲート絶縁膜におけるRIEダメージからの回復(プロセス科学と新プロセス技術)

川田 宣仁,  永嶋 賢史,  市川 徹,  赤堀 浩史,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-129
Low frequency noise in Si(100) and Si(110) p-channel MOSFETs

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[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-130
低温形成SiO_2膜の電気的特性向上に関する検討(プロセス科学と新プロセス技術)

永島 幸延,  赤堀 浩史,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-131
原子レベルでの半導体単結晶表面の湿式エッチング過程(プロセス科学と新プロセス技術)

板谷 謹悟,  小林 慎一郎,  文 鋭,  湊 丈俊,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-132
自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面酸窒化シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)

坪井 秀行,  鈴木 愛,  畠山 望,  遠藤 明,  高羽 洋充,  久保 百司,  宮本 明,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-133
ラジカル酸化法により形成したSiO_2/Si界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)

諏訪 智之,  寺本 章伸,  大見 忠弘,  服部 健雄,  木下 豊彦,  室 隆桂之,  加藤 有香子,  

[発表日]2009/10/22
[資料番号]SDM2009-134
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