エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2003/10/14)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2003/10/14
[資料番号]
目次

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[発表日]2003/10/14
[資料番号]
シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

佐々木 由美子,  内田 晶子,  千葉 景子,  遠藤 梨紗,  菅原 健太郎,  千田 朝子,  松浦 純,  伊賀 英樹,  磯田 直征,  篠田 克己,  横須賀 俊之,  遠藤 明,  久保 百司,  今村 詮,  宮本 明,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-169
シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

伊賀 英樹,  千葉 景子,  内田 晶子,  佐々木 由美子,  遠藤 梨紗,  菅原 健太郎,  千田 朝子,  松浦 純,  磯田 直征,  篠田 克己,  横須賀 俊之,  遠藤 明,  久保 百司,  今村 詮,  二井 啓一,  寺本 章伸,  大見 忠弘,  宮本 明,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-170
次世代ウェーハプロセスにおけるケミカルコンタミネーションの影響と制御技術(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

伊藤 彰子,  玉置 真希子,  嶋崎 綾子,  森 伸二,  佐喜 和朗,  灘原 壮一,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-171
高アスペクト比微細構造におけるウェット洗浄の限界とパターン破壊フリー洗浄技術(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

嵯峨 幸一郎,  国安 仁,  服部 毅,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-172
シリコン(110)面の平坦化(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

赤堀 浩史,  二井 啓一,  寺本 章伸,  平山 昌樹,  大見 忠弘,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-173
界面平坦化を行ったシリコン(110)面上トランジスタの電気的特性(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

濱田 龍文,  赤堀 浩史,  二井 啓一,  諏訪 智之,  平山 昌樹,  寺本 章伸,  大見 忠弘,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-174
(110)面基板上に作製したサブ100nmCMOSの電気特性(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

中村 英達,  江崎 達也,  岩本 敏幸,  東郷 光洋,  池澤 健夫,  五十嵐 信行,  羽根 正巳,  山本 豊二,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-175
電場下でのダイナミツクス計算を可能とする高速化量子分子動力学法の開発と応用(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

久保 百司,  磯田 直征,  篠田 克己,  黒川 仁,  遠藤 明,  今村 詮,  宮本 明,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-176
シリコン表面への低エネルギーボロン注入プロセスに関する計算化学的検討(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

篠田 克己,  遠藤 明,  久保 百司,  今村 詮,  薮原 秀彦,  加納 正明,  宮本 明,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-177
ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討(<特集>プロセスクリーン化と新プロセス技術)

遠藤 梨紗,  内田 晶子,  佐々木 由美子,  千葉 景子,  菅原 健太郎,  千田 朝子,  松浦 純,  磯田 直征,  篠田 克己,  遠藤 明,  久保 百司,  宮本 明,  

[発表日]2003/10/14
[資料番号]SDM2003-178
奥付

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[発表日]2003/10/14
[資料番号]
複写される方へ

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[発表日]2003/10/14
[資料番号]