エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：2002/11/22)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]
目次

,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]
テール関数に基づくイオン注入データベース(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

鈴木 邦広,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-205
Sub-100nm MOSFETのエクステンション領域におけるキャリア分布評価(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

福留 秀暢,  青山 敬幸,  有本 宏,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-206
しきい値可変CMOS(VTCMOS)における反転層の有限厚さの影響(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

南雲 俊治,  平本 俊郎,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-207
DIBLを用いた低消費電力回路形式のための最適デバイス設計(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

劉 慶艶,  桜井 貴康,  平本 俊郎,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-208
部分空乏型SOI CMOSのヒストリー効果の分類 : 擬似的完全空乏型動作(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

宝玉 充,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-209
大容量メモリ混載システムLSI用低温プロセスの開発(<特集>先端CMOS及びプロセス関連技術)

吉田 英司,  宮下 俊彦,  新田 博行,  田中 正幸,  石井 賢,  赤坂 泰志,  chou P.H.,  橋本 浩一,  幸山 裕亮,  田中 徹,  奈良 安雄,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]SDM2002-210
[OTHERS]

,  

[発表日]2002/11/22
[資料番号]