エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2001/10/09)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2001/10/9
[資料番号]
目次

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[発表日]2001/10/9
[資料番号]
300mm時代の新しい生産技術コンセプト

小池 淳義,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-159
ゲート酸化膜の電気的特性に対する有機物汚染の影響

井上 真雄,  高橋 貫治,  寺本 章伸,  堀江 靖彦,  金岡 竜範,  大野 吉和,  原 英司,  小林 淳二,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-160
0.10ミクロンDRAM用MIM/Ta_2O_5キャパシタプロセスの開発

浅野 勇,  中村 吉孝,  平谷 正彦,  生田目 俊秀,  飯島 晋平,  佐伯 智則,  二瀬 卓也,  山本 智志,  斎藤 達之,  関口 敏宏,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-161
その場PドープされたSiガスソースMBEの成長・ドーピング機構

末光 眞希,  築舘 厳和,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-162
真空装置内での有機物汚染挙動

林 輝幸,  鈴木 要,  斉藤 美佐子,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-163
超純水中に残存する痕跡不純物のシリコンウェハへの付着挙動

木暮 雅彦,  米原 崇広,  櫻井 稔久,  大見 忠弘,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-164
シリコンウェハ汚染に関する計算化学的検討

横須賀 俊之,  瀬田 秀行,  高見 誠一,  久保 百司,  宮本 明,  高塚 威,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-165
電気透析法を用いた使用済み現像液の再生・再利用技術

菅原 広,  田嶋 義宣,  大見 忠弘,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-166
酸化剤濃度コントロールSOMによるレジスト剥離技術

冨田 寛,  佐藤 基之,  灘原 壮一,  斎藤 孝行,  小路丸 友則,  村岡 祐介,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-167
FPD用ガラス基板のエッチャントに関する研究

藪根 辰弘,  櫻井 稔久,  大見 忠弘,  二井 啓一,  伊藤 周徳,  菊山 裕久,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-168
CMP過程に関する計算化学的検討

横須賀 俊之,  篠田 克己,  黒川 仁,  高見 誠一,  久保 百司,  宮本 明,  今村 詮,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-169
高速化量子分子動力学法の開発とシリコン系材料への応用

高見 誠一,  横須賀 俊之,  黒川 仁,  草谷 友規,  鈴木 研,  久保 百司,  宮本 明,  今村 詮,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-170
高速化量子分子動力学法によるシリコンプラズマ酸化過程の検討

黒川 仁,  篠田 克己,  横須賀 俊之,  鈴木 研,  高見 誠一,  久保 百司,  宮本 明,  今村 詮,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-171
高速化量子分子動力学法による塩素プラズマエッチング過程の解析

篠田 克己,  横須賀 俊之,  黒川 仁,  高見 誠一,  久保 百司,  宮本 明,  今村 詮,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-172
エレクトロニクス材料の結晶成長シミュレーション

久保 百司,  横須賀 俊之,  黒川 仁,  草谷 友規,  鈴木 研,  高見 誠一,  宮本 明,  今村 詮,  

[発表日]2001/10/9
[資料番号]SDM2001-173
[OTHERS]

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[発表日]2001/10/9
[資料番号]