エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：2000/10/12)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]
目次

,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]
プラズマエッチングプロセスの課題と今後の展開 : プラズマエッチング高精度化へのチャレンジ

寒川 誠二,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-142
バランスト電子ドリフトマグネトロンプラズマを用いたダメージフリーエッチング技術

海原 竜,  平山 昌樹,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-143
ゲート酸化膜の破壊メカニズム

寺本 章伸,  井上 真雄,  梅田 浩司,  大野 吉和,  西本 章,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-144
原子状窒素を用いたSi基板のダメージフリー低温窒化技術

藤崎 芳久,  石原 宏,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-145
AFMによるラジカル酸化膜/Si界面平坦化効果の検討

臼田 宏治,  長嶺 真,  伊藤 仁,  鳥海 明,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-146
マイクロ波励起高密度Kr/O_2/N_2プラズマを用いたシリコン酸窒化膜の低温形成

大坪 和雄,  斉藤 祐司,  関根 克行,  平山 昌樹,  須川 成利,  / 大見 忠弘,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]SDM2000-147
[OTHERS]

,  

[発表日]2000/10/12
[資料番号]