エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：1999/09/27)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]
目次

,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]
Direct Liquid Injection Systemを用いたAl-CVD堆積速度の向上

西村 隆正,  李 昌勲,  益 一哉,  坪内 和夫,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-139
WF_6-SiH_4系によるSi表面でのW低温選択成長の初期過程

山本 裕司,  松浦 孝,  室田 淳一,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-140
高清浄減圧CVD法を用いたPH_3によるSi(100)およびGe(100)表面でのPの原子層吸着

島宗 洋介,  櫻庭 政夫,  松浦 孝,  室田 淳一,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-141
SiGe表面の水素吸着・脱離過程

庄子 大生,  篠原 正典,  広瀬 文彦,  坂本 仁志,  庭野 道夫,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-142
電極電圧制御下でのシリコン表面エッチング過程の赤外分光観察

木村 康男,  近藤 雄介,  庭野 道夫,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-143
ダイヤモンドおよびシリコンの表面反応に関する量子化学的検討

田村 宏之,  周 慧,  高見 誠一,  久保 百司,  宮本 明,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-144
メガソニックを用いた室温レジスト剥離技術

小島 泉里,  自在丸 隆行,  尾前 俊吉,  大見 忠弘,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-145
化学増幅型レジストプロセスにおける残留溶媒及び基板上残留成分の影響

渡辺 実,  矢部 幸子,  町田 哲志,  田口 隆,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]SDM99-146
[OTHERS]

,  

[発表日]1999/9/27
[資料番号]