エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1999/01/22)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1999/1/22
[資料番号]
目次

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[発表日]1999/1/22
[資料番号]
高速システムLSI対応Cu配線技術

原田 昭彦,  五十嵐 元繁,  大崎 明彦,  東谷 恵市,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-184
TEMによるAl配線のエレクトロマイグレーションその場観察

清水 紀嘉,  鈴木 貴志,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-185
全パターンをEBで露光した0.2μm nMOSFETの試作

田辺 昭,  梅谷 正人,  藤原 郁夫,  小倉 孝之,  片岡 耕太郎,  林田 茂樹,  松尾 明,  桜庭 弘,  遠藤 哲郎,  舛岡 富士雄,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-186
テトラメチルシラン/酸素ラジカルの系の気相重合反応とSiO_x堆積形状

伊藤 仁,  奈良 明子,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-187
フッ素化アモルファスカーボン膜を用いた低誘電率層間絶縁膜形成

辰巳 徹,  遠藤 和彦,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-188
低誘電率有機SOG膜のILD適用検討

吉江 徹,  陳 世昌,  金森 順,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-189
ダイレクトオンメタル構造のイオン注入有機SOG層間絶縁膜形成技術

松原 直輝,  水原 秀樹,  渡辺 裕之,  実沢 佳居,  植田 慶一,  井上 恭典,  茨木 晃,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-190
液相堆積法による低誘電率シリコン酸化膜

チャンタマリー ポーンケオ,  荒川 太郎,  羽路 伸夫,  

[発表日]1999/1/22
[資料番号]SDM98-191
[OTHERS]

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[発表日]1999/1/22
[資料番号]