エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1998/11/20)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1998/11/20
[資料番号]
目次

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[発表日]1998/11/20
[資料番号]
ArFエキシマレーザリソグラフィの開発進捗と将来展望

小川 透,  松尾 隆弘,  宮崎 順二,  森本 博明,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-160
Ta_3Ge吸収体を用いた高精度X線マスク作製技術

射場 義久,  熊坂 文明,  山部 正樹,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-161
EBブロック露光におけるマスクバイアス条件

高橋 公俊,  金田 博幸,  奈良 安雄,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-162
ハーフトーン位相シフトマスクを用いたコマ収差測定法の検討

早野 勝也,  長谷川 昇雄,  今井 彰,  浅井 尚子,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-163
レジスト寸法の簡易予測方法

中尾 修治,  松原 浩司,  山口 敦美,  坂井 淳二郎,  中江 彰宏,  辻田 好一郎,  若宮 亙,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-164
高加速電圧マスク描画装置(HL-800M)を用いた0.18μmレチクル作製用化学増幅系ポジ型レジストの開発

新井 唯,  逆水 登志夫,  曽我 隆,  佐藤 秀寿,  加藤 幸治,  白石 洋,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-165
CD欠陥と透過率欠陥を高感度で検出する新しいマスク欠陥検査方法

山下 恭司,  山口 真司,  中島 和弘,  

[発表日]1998/11/20
[資料番号]SDM98-166
[OTHERS]

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[発表日]1998/11/20
[資料番号]