エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1997/08/26)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1997/8/26
[資料番号]
目次

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[発表日]1997/8/26
[資料番号]
NH_3によるSi表面の低温熱窒化

渡辺 健,  櫻庭 政夫,  松浦 孝,  室田 淳一,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-92
Si(100)表面でのCH_4の低温反応

伊是名 篤志,  櫻庭 政夫,  松浦 孝,  室田 淳一,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-93
MOSデバイス中の可動イオンを不活性化する紫外線照射の効果

逸見 学,  町田 克之,  高橋 淳一,  秋谷 秀夫,  中山 諭,  吉野 秀男,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-94
タンクルシリサイドを用いた低リーク電流・低抵抗コンタクト形成技術

谷口 祥之,  伊野 和英,  大見 忠弘,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-95
FSAM-MOSFETにおける寄生抵抗低減効果

横山 道央,  田嶋 陵,  松橋 秀樹,  益 一哉,  坪内 和夫,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-96
周辺回路の歩留りを考慮したギガビットDRAMの最適冗長回路設計法

渡辺 重佳,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-97
高集積DRAM構造の検討

只木 芳隆,  関口 敏宏,  村田 純,  村中 雅也,  三浦 真史,  真壁 一也,  帰山 敏之,  趙 成洙,  湯原 克夫,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-98
大口径400mm結晶の開発

山岸 浩利,  蔵本 誠,  白石 裕,  町田 倫久,  高野 清隆,  高瀬 伸光,  飯田 哲広,  松原 順一,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-99
EB直描と光リソグラフィとの高次重ね合わせ補正方法

徳永 賢一,  中島 謙,  小島 義克,  小野田 中,  野末 寛,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-100
異方性エッチングによる高精度シリコン極微細構造作製プロセス

斉藤 健一,  石黒 仁揮,  向山 俊和,  平本 俊郎,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-101
誘導結合型プラズマを用いた高選択酸化膜エッチング

林 重徳,  山中 通成,  久保田 正文,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-102
均一水平磁場を用いた均一高密度プラズマプロセス用装置の開発

平山 祐介,  平山 昌樹,  高野 晴之,  大見 忠弘,  

[発表日]1997/8/26
[資料番号]SDM97-103
[OTHERS]

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[発表日]1997/8/26
[資料番号]