エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1995/10/19)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1995/10/19
[資料番号]
目次

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[発表日]1995/10/19
[資料番号]
化学増幅型レジストに及ぼす窒化シリコン膜表面水酸基の影響

山中 良子,  服部 孝司,  峰 利之,  田中 稔彦,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-139
光近接効果補正技術開発

中江 彰宏,  加門 和也,  塙 哲郎,  中尾 修治,  松井 安次,  森泉 幸一,  満田 博志,  名井 康人,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-140
空間周波数2倍化法 (FREDIS) を用いた KrF 露光によるサブ 0.15μm パタン形成

大高 明浩,  河合 義夫,  田中 啓順,  松田 維人,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-141
KrF 露光における段差上反射の検討

吉野 宏,  井谷 俊郎,  橋本 修一,  山名 慎治,  佐本 典彦,  笠間 邦彦,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-142
Deep UV ハーフトーン型位相シフトマスクにおける位相シフト量と透過率の影響

伊藤 正光,  姜 帥現,  桜井 秀昭,  東川 巌,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-143
Ta/SiC X-Ray Mask

青山 肇,  熊坂 文明,  射場 義人,  山部 正樹,  

[発表日]1995/10/19
[資料番号]SDM95-144
[OTHERS]

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[発表日]1995/10/19
[資料番号]