エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：1994/10/20)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1994/10/20
[資料番号]
目次

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[発表日]1994/10/20
[資料番号]
エタノールガス添加O_2RIE

スニル ウィクラマナヤカ,  アレキサンダー ブローベル,  中西 洋一郎,  畑中 義式,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-111
ヘキサメチルジシランを用いた直流放電プラズマCVDによる生成膜

山梨 秀則,  神野 敏明,  江藤 昭弘,  神藤 正士,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-112
リモートプラズマCVDによるSi薄膜の低温成長

内海 一肇,  ガンジュ アシュトシュ,  吉田 明,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-113
N_2添加O_2スーパーマグネトロンプラズマによるクォーターミクロンレジストパターンのエッチング形状制御

木下 治久,  山内 阿津志,  澤井 巳喜夫,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-114
アーク状マイクロ波放電の特性と廃棄プラスチック分解への応用

梶原 昌隆,  神藤 正士,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-115
大気圧非平衡プラズマの生成とエッチングとアッシングへの応用

猪俣 清人,  河 賢権,  李 奉柱,  鯉沼 秀臣,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-116
直線多極磁場中ECH放電による一様な大容積高密度プラズマの生成

渡辺 明洋,  深尾 正之,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-117
ECR SiH_4プラズマプロセスにおけるラジカルの計測

山本 康雄,  堀 勝,  平松 美根男,  後藤 俊夫,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-118
Radical Fluxes in Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition of Amorphous Silicon

張 梅,  中山 喜萬,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-119
アモルファスランダム多層膜の光反射率異常とその偏光依存性

竹内 繁樹,  山田 幸弘,  仁田 昌二,  野々村 修一,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-120
偏光の反射測定によるプラズマプロセスのその場観察

内藤 暢夫,  川崎 雅司,  鯉沼 秀臣,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-121
多結晶シリコン薄膜形成過程の分光エリプソメトリーによるその場観察 : 原子状水素による結晶化過程の解明

赤坂 哲也,  清水 勇,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-122
SiF_4/SiH_4/H_2混合ガスRF放電プラズマCVDによるポリシリコン堆積過程のその場分光エリプソメトリー

白藤 立,  橘 邦英,  森田 達夫,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-123
分光エリプソメトリ解析に有用な非晶資材料の経験的誘電率関数

兼子 勇一,  青山 満,  山口 十六夫,  

[発表日]1994/10/20
[資料番号]SDM94-124
[OTHERS]

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[発表日]1994/10/20
[資料番号]