エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：1994/07/26)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
目次

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
オンチップパルスジェネレータを用いた高周波パルス電流によるEM評価

服部 健雄,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-45
LOCOSプロセス条件とアクティブの方向が接合リーク電流に与える影響

伊藤 眞宏,  土生津 義宗,  黒田 茂樹,  長友 良樹,  伊野 昌義,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-46
極薄シリコン酸化膜のストレス誘起微小リーク機構

木村 幹広,  小山 浩,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-47
End Point Detection of Oxide Etch by Using Plasma Chemistry Monitor

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
Currtent Problems in the Application of the Ta_2O_5 Dielectrics to the DRAM Capacitors

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
450℃アニールにより低逆バイアス電流n^+p接合の形成

岡 マウリシオ 正純,  中田 明良,  冨田 和朗,  柴田 直,  大見 忠弘,  新田 雄久,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-50
Thermal Warpage in Silicon Wafer with Off-axis

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
Investigation on Diffusion Barrier Layers between Cu and Si

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
ポリサイドゲート電極でのECR窒素プラズマによる拡散バリヤ層SiNの形成技術

細矢 徹夫,  町田 克之,  今井 和雄,  荒井 英輔,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-53
微細ポリシリコンパターン上に形成されたチタンシリサイド膜の解析

矢幡 秀治,  長野 隆洋,  山本 直樹,  松崎 望,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-54
Structral and Electrical Properties of TiN/Al/TiN_x in CMOS device

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]
パルス電流ストレスによるジャイアントグレイン銅配線の信頼性評価

竹脇 利至,  山田 尚,  柴田 直,  大見 忠弘,  新田 雄久,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-56
ソフトエラーシミュレーションシステム

佐藤 成生,  須戸 律雄,  田代 浩子,  中山 範明,  佐々木 伸夫,  

[発表日]1994/7/26
[資料番号]SDM94-57
[OTHERS]

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[発表日]1994/7/26
[資料番号]