エレクトロニクス-集積回路(開催日：1999/07/22)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]
CONTENTS

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]
A 0.1μm CMOS Technology using W/WN_x/Polysilicon Dual Gate Electrode for 4G DRAM and Beyond

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-63
窒素プラズマに照射したSi基板上に形成された酸化膜の熱酸化特性とその信頼性

池田 晃裕,  藤木 千香,  高木 憲一,  黒木 幸令,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-64
Fabrication and Characterization of a Quantum Dot Flash Memory

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-65
Ultra-Low Energy Ion Implant Profile Prediction for sub 0.1μm Technologies

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-66
リモートプラズマプロセスによるSi低温エピタキシャル成長

吉田 明,  若原 昭浩,  内海 一肇,  ベイ インホ,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-67
Hybrid Simulation for IP-Based Design

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-68
A Hardware Cost Estimation Method For Design Reuse

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-69
機能可変型DSPプロセッサ

Tan Boon Keat,  吉村 隆司,  谷口 研二,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-70
FatBaby: Multi-functional Rapid Prototyper for IP-based System Designs

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-71
Reuse Design of Run Length Coder using VHDL

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-72
A Real-Time MP3 encoder design with ARM IP

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-73
IP Interface Design Experiences with an On-Chip Bus

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-74
Optical Lithography for Sub-100nm Technology

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-75
40nm Electron Beam Patterning by Optimization of Digitizing Method and Post Exposure Bake and its Application to Silicon Nano-Fabrication

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-76
マイクロ波励起高密度プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の低温形成

斉藤 祐司,  関根 克行,  平山 昌樹,  大見 忠弘,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-77
Control of Boron Lateral Diffusion by Nitrogen Implantation in Sub-0.15mm CMOS Devices

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[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-78
低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化

熊巳 創,  進藤 亘,  本藤 哲史,  大見 忠弘,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-79
サブクオーターミクロンルールのデュアルゲートを伴なったCMOSデバイスに対応したCoサリサイドの開発

角 博文,  末永 淳,  岡本 裕,  

[発表日]1999/7/22
[資料番号]ICD99-80
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