エレクトロニクス-集積回路(開催日:1997/07/25)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]
CONTENTS

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]
Shallow Trench Isolation Characteristics with High-Density-Plasma (HDP) CVD Oxide for Deep-Submicron CMOS Technologies

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-80
Bird's Beak free LOCOS Isolation for 256M DRAM

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-81
Defects study of retrograde twin well CMOS that has MeV ion implanted buried layer

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-82
基板/酸化膜および酸化膜/ゲート界面の微細構造制御による酸化膜信頼性の向上

由上 二郎,  峰 利之,  糸賀 敏彦,  大倉 理,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-83
Application of PECVD-WNx Electrode for Ta_2O_5 Capacitor

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-84
極薄ゲート酸窒化膜を用いた高信頼性0.25μmMOSFET

山本 豊二,  小倉 卓,  斉藤 幸重,  上沢 謙一,  辰巳 徹,  最上 徹,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-85
Degradation and Recovery in the Ferroelectric Properties of Pt/Pb(Zr,Ti)O_3/Pt capacitor caused by SiO_2 Film Deposition

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-86
0.25-μmCMOS/SIMOXを用いた40-Gb/s8×8ATMスイッチLSI

安田 禎之,  大友 祐輔,  野河 正史,  井上 順一,  山越 公洋,  沢田 博俊,  井野 正行,  漆谷 重雄,  日野 滋樹,  佐藤 康博,  武井 雄一郎,  渡辺 琢美,  武谷 健,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-87
A 3.3 V 0.8 μm CMOS IF IC for CDMA/FM Cellular Phone

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-88
ATMスイッチ用検索機能付きアドレスキュー

石脇 昌彦,  野谷 宏美,  近藤 晴房,  斉藤 泰孝,  岩部 睦,  川口 一雄,  北尾 雅哉,  中瀬 泰伸,  松田 吉雄,  徳田 健,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-89
SOI基板を用いた5マスクCMOS技術

今井 清隆,  大西 秀明,  中村 弘幸,  松原 義久,  石上 隆司,  酒井 哲哉,  堀内 忠彦,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-90
EVALUATION OF SOI WAFERS USING C-V CHARACTERISTICS OF THIN-FILM MOS CAPACTOR

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-91
チャネルアモルファス化による浅いカウンタドープ層を有するpMOSデバイスの特性

三宅 雅保,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-92
Effects of Low Temperature Interlayer Dielectric Films on the Gate Oxide Quality of Deep Submicron MOSFET's

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]ICD97-93
[OTHERS]

,  

[発表日]1997/7/25
[資料番号]