エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2014/10/17)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]
目次

,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]
金属酸化物ナノシートを用いた極薄キャリア選択層の成膜と逆構造型バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池への応用(薄膜プロセス・材料,一般)

後藤 慶紀,  坂 優助,  伊東 栄次,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-100
カルビン内包多層カーボンナノチューブのリチウムイオン二次電池特性評価(薄膜プロセス・材料,一般)

姜 天水,  高 永一,  稲畑 翔,  高木 駿,  山崎 裕貴,  平出 博樹,  前川 大輝,  村松 寛之,  林 卓哉,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-101
PAN繊維由来の超臨界水合成炭素を用いたリチウムイオン二次電池負極特性(薄膜プロセス・材料,一般)

田中 秀明,  菅又 遼平,  林 卓哉,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-102
密度汎関数法による含窒素カーボンのイオン吸着能の解析(薄膜プロセス・材料,一般)

杉澤 智亮,  岩切 大輔,  位田 裕基,  松井 佑樹,  梶浦 良紀,  田中 義也,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-103
熱化学気相成長法によるBCN合成の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

山崎 裕貴,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-104
グラフェンへの六方晶窒化ホウ素を用いたバンドギャップの導入(薄膜プロセス・材料,一般)

稲畑 翔,  高木 駿,  山崎 裕貴,  平出 博樹,  前川 大輝,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-105
光照射可能なホットウォール型化学気相成長装置の開発とカーボンナノチューブの作製(薄膜プロセス・材料,一般)

川口 大貴,  津田 悠作,  吉田 圭佑,  永田 知子,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-106
カップ積層型カーボンナノチューブに担持させた白金粒子の挙動観察 : 溶媒による被膜が与える影響(薄膜プロセス・材料,一般)

松井 佑樹,  岩切 大輔,  杉澤 智亮,  位田 裕基,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-107
PTCDAを用いた熱合成によるGNRの構造制御の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

岩切 大輔,  杉澤 智亮,  位田 裕基,  松井 祐樹,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-108
TEOSを用いた熱CVD法による4H-SiC MIS特性に対するH_2アニールの効果(薄膜プロセス・材料,一般)

狩野 巧生,  赤羽 桂幸,  小林 悠太,  山上 朋彦,  上村 喜一,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-109
成長室を用いた溶液成長法によるSnS堆積(薄膜プロセス・材料,一般)

山中 雄貴,  兼森 遥平,  高野 泰,  石田 明広,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-110
CaFeO_x、LaFeO_3単相膜および[CaFeO_x/LaFeO_3]人工超格子の成膜条件最適化と電気的磁気的特性(薄膜プロセス・材料,一般)

大島 佳祐,  渡部 雄太,  及川 貴大,  稲葉 隆哲,  / 永田 知子,  橋本 拓也,  高瀬 浩一,  山本 寛,  岩田 展幸,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-111
両面加工法で作製したBi-2212固有接合スタックの温度分布評価法の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

西方 翼,  小瀧 侑央,  加藤 孝弘,  石橋 隆幸,  安井 寛治,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-112
薄いSiO_2層の介在するNi/Si系におけるシリサイド形成反応(薄膜プロセス・材料,一般)

野矢 厚,  武山 真弓,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-113
低温作製されたZr_3N_4膜の絶縁バリヤ特性(薄膜プロセス・材料,一般)

佐藤 勝,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-114
3D及び2.5D-IC配線に適用可能な低温SiN_x膜の特性(薄膜プロセス・材料,一般)

武山 真弓,  佐藤 勝,  小林 靖志,  中田 義弘,  中村 友二,  野矢 厚,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-115
増粘多糖類を出発材料とした電気二重層キャパシタの特性評価(薄膜プロセス・材料,一般)

平良 大幸,  石田 誠顕,  町田 匡,  金山 尚人,  小林 謙作,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-116
カップ積層型カーボンナノチューブを用いた電気二重層キャパシタの特性評価(薄膜プロセス・材料,一般)

町田 匡,  石田 誠顕,  金山 尚人,  小林 謙作,  平良 大幸,  國枝 義宏,  布廣 祥平,  林 卓哉,  村松 寛之,  

[発表日]2014/10/17
[資料番号]CPM2014-117
12>> 1-20hit(28hit)