エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2013/10/17)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]
目次

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]
電磁誘起透明化現象を模擬するメタマテリアルにおける電磁波の群速度制御(簿膜プロセス・材料,一般)

玉山 泰宏,  安井 寛治,  中西 俊博,  北野 正雄,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-93
自己発熱がBi-2212固有ジョセフソン接合の発振特性に及ぼす影響(簿膜プロセス・材料,一般)

西方 翼,  小瀧 侑央,  加藤 孝弘,  石田 弘樹,  末松 久幸,  玉山 泰宏,  川上 彰,  安井 寛治,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-94
パルスレーザー堆積法によるBi系フェライトを用いた人工超格子の作製(簿膜プロセス・材料,一般)

岩田 展幸,  渡部 雄太,  及川 貴大,  稲葉 隆哲,  大島 佳祐,  山本 寛,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-95
溶液成長法により作製したPbS薄膜の膜質の成長時間依存性(簿膜プロセス・材料,一般)

摩須 大輝,  高野 泰,  石田 明広,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-96
溶液成長法を用いたSnS膜の作製(簿膜プロセス・材料,一般)

山中 雄貴,  高野 泰,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-97
アルコールを原料とした熱CVD法によるCNTの作製(簿膜プロセス・材料,一般)

久保 直希,  山田 渓介,  山上 朋彦,  上村 喜一,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-98
金属元素をドープした石英ガラスの紫外光励起よる発光特性の検討(簿膜プロセス・材料,一般)

野毛 悟,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-99
低温プロセスによるSiN_x膜の特性評価(簿膜プロセス・材料,一般)

武山 真弓,  佐藤 勝,  中田 義弘,  小林 靖志,  中村 友二,  野矢 厚,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-100
Cu表面保護膜としてのAl-Nb合金薄膜の酸化特性(簿膜プロセス・材料,一般)

野矢 厚,  武山 真弓,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-101
プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化チタン成膜(簿膜プロセス・材料,一般)

鹿又 健作,  大場 尚志,  籾山 克章,  鈴木 貴彦,  ボシール,  久保田 繁,  平原 和弘,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-102
FeおよびFeSi積層膜からの固相反応法によるSi上鉄シリサイド薄膜形成(簿膜プロセス・材料,一般)

籾山 克章,  鹿又 健作,  有馬 ボシールアハンマド,  久保田 繁,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-103
酸化鉄ナノ・マイクロ粒子の作製及びキャラクタリゼーション(簿膜プロセス・材料,一般)

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-104
SiCコーティングフィラメントを用いたHWCVD法によるSiC薄膜の低温形成と構造評価(簿膜プロセス・材料,一般)

阿部 克也,  小澤 勇斗,  山上 朋彦,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-105
絶縁膜中に分散させたCNT冷陰極の開発(簿膜プロセス・材料,一般)

浅田 裕司,  山上 朋彦,  上村 喜一,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-106
高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製(簿膜プロセス・材料,一般)

石井 琢馬,  佐藤 祐二,  渡邊 貴晴,  石井 清,  佐久間 洋志,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]CPM2013-107
複写される方へ

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]
Notice for Photocopying

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]
奥付

,  

[発表日]2013/10/17
[資料番号]
12>> 1-20hit(21hit)