エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2010/10/21)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2010/10/21
[資料番号]
目次

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[発表日]2010/10/21
[資料番号]
ニオブ酸カリウム/チタン酸バリウム複合材料の開発(薄膜プロセス・材料,一般)

臼井 亮輔,  番場 教子,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-91
一方向凝固法によるタンタル酸カリウム単結晶の育成(薄膜プロセス・材料,一般)

竹中 貴之,  番場 教子,  干川 圭吾,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-92
磁性金属を充填したメソポーラスシリカSBA-15の構造と磁気特性(薄膜プロセス・材料,一般)

篠原 良寛,  榮岩 哲二,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-93
Magnetic properties of TbFeCo films with Au underlayer for perpendicular magnetic recording

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[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-94
超音波噴霧熱分解法によるZnOナノワイヤーの作製 : 溶媒の違いによる結晶形状への影響(薄膜プロセス・材料,一般)

テイ ミョー タン,  安松 洋,  田中 孝典,  橋本 佳男,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-95
高周波スパッタリングによるニッケル酸化物半導体の作製及び評価(薄膜プロセス・材料,一般)

永田 篤史,  内田 和男,  小泉 淳,  小野 洋,  野崎 眞次,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-96
FTS法にUBMS法を組み合わせたSrAl_2O_4:Eu,Dy薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

久野 敬史,  齋藤 稔,  小林 和晃,  清水 英彦,  岩野 春男,  川上 貴浩,  福嶋 康夫,  永田 向太郎,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-97
MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長(薄膜プロセス・材料,一般)

渡邉 雄仁,  柴田 明,  鹿又 健作,  鈴木 貴彦,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-98
グラファイト触媒を用いたHW-CVD法によるSiC薄膜の低温形成(薄膜プロセス・材料,一般)

坂口 優也,  中村 嘉孝,  有馬 潤,  森山 和久,  林部 林平,  阿部 克也,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-99
直接窒化法で形成したSiC表面窒化層の厚さと界面特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)

鈴木 真一郎,  村田 裕亮,  逸見 充則,  山上 朋彦,  林部 林平,  上村 喜一,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-100
MIS型ショットキー接触の電流電圧特性を利用した窒化膜/SiC界面特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)

村田 裕亮,  鈴木 真一郎,  小林 尚平,  山上 朋彦,  林部 林平,  上村 喜一,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-101
パルスモードホットメッシュCVD法によるGaN成長条件の最適化(薄膜プロセス・材料,一般)

永田 一樹,  里本 宗一,  片桐 裕則,  神保 和夫,  末光 真希,  遠藤 哲郎,  伊藤 隆,  中澤 日出樹,  成田 克,  安井 寛治,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-102
太陽電池用Cu_2ZnSnS_4薄膜の作製 : プリカーサー及び硫化条件の影響(薄膜プロセス・材料,一般)

テイ ミョー タン,  漢人 康善,  橋本 佳男,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-103
交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

清水 健児,  丹内 俊郎,  松井 博章,  清水 英彦,  岩野 春男,  川上 貴浩,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-104
スパッタ法を用いた有機EL素子用低温ITO薄膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

中村 陽平,  劉 暢,  清水 英彦,  岩野 春男,  福嶋 康夫,  永田 向太郎,  星 陽一,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-105
Alq_3/PEDOTを用いたスピンコート法による2層低分子有機EL薄膜の簡易作製(薄膜プロセス・材料,一般)

中條 妃奈,  野田 淳史,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-106
横方向DCELデバイスにおけるZnOナノロッド上でのEL蛍光体の堆積形態の影響(薄膜プロセス・材料,一般)

佐藤 知正,  松澤 友紀,  金城 貴樹,  平手 孝士,  

[発表日]2010/10/21
[資料番号]CPM2010-107
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[発表日]2010/10/21
[資料番号]
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