エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2010/09/03)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]
目次

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]
ホログラムメモリのビット間干渉と2次元信号処理適用の効果(光記録技術・電子材料,一般)

近藤 陽,  山岸 泰之,  高畑 洋介,  山本 学,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-79
反射型ホログラムメモリの記録再生シミュレーションと媒体収縮の影響に関する考察(光記録技術・電子材料,一般)

山田 剛史,  大堀 智広,  吉田 周平,  山本 学,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-80
角度多重ホログラフィックメモリにおけるフォトポリマー収縮モデルの検証(光記録技術・電子材料,一般)

紫垣 政信,  仁田 功一,  的場 修,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-81
コリニア方式による磁性ガーネットヘの熱磁気ホログラム記録(光記録技術・電子材料,一般)

加藤 寛貴,  櫻井 寛之,  林 攀梅,  堀米 秀嘉,  井上 光輝,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-82
ホログラフィック光ディスクによる超高速光相関システム : 画像・動画識別への応用(光記録技術・電子材料,一般)

渡邉 恵理子,  小舘 香稚子,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-83
1ビーム検出方式を用いたBD2層対応スリム型光ピックアップの開発(光記録技術・電子材料,一般)

永沢 充,  山崎 和良,  一色 史雄,  北田 保夫,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-84
マルチフェロイック空間光変調器の光変調機能とPLZT薄膜の形成(光記録技術・電子材料,一般)

佐藤 洋,  後藤 太一,  久米 章博,  高木 宏幸,  井上 光輝,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-85
圧電体薄膜上への低温多結晶シリコン薄膜トランジスタの作製(光記録技術・電子材料,一般)

岡田 耕輔,  水戸 慎一郎,  磯谷 亮介,  高木 宏幸,  井上 光輝,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-86
遷移金属含有低純度Siを用いた太陽電池の製作(光記録技術・電子材料,一般)

都築 暁,  武田 大樹,  佐野 裕紀,  鈴木 貴彦,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-87
ペンタセン/シリコン有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(光記録技術・電子材料,一般)

大山 直樹,  高梨 優樹,  金子 翔,  鈴木 貴彦,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-88
固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)

籾山 克章,  鈴木 貴彦,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-89
高効率電気光学結晶KTNを用いたバルク型光デバイス(光記録技術・電子材料,一般)

豊田 誠治,  八木 生剛,  今井 欽之,  宮津 純,  笹浦 正弘,  長沼 和則,  佐々木 雄三,  藤浦 和夫,  

[発表日]2010/9/3
[資料番号]CPM2010-90
複写される方へ

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]
Notice for Photocopying

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]
奥付

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]
裏表紙

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[発表日]2010/9/3
[資料番号]