エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2008/10/23)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2008/10/23
[資料番号]
目次

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[発表日]2008/10/23
[資料番号]
反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の作製と評価(薄膜プロセス・材料,一般)

山口 拓也,  坪井 望,  大石 耕一郎,  小林 敏志,  金子 双男,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-75
パルスモードホットメッシュCVD法による窒化物半導体のエピタキシャル成長(薄膜プロセス・材料,一般)

小前 泰彰,  齋藤 健,  末光 眞希,  伊藤 隆,  遠藤 哲郎,  中澤 日出樹,  成田 克,  高田 雅介,  安井 寛治,  赤羽 正志,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-76
ワイドギャップ半導体でキャッピングされたGeナノドットの光学特性(薄膜プロセス・材料,一般)

須藤 晴紀,  黒田 朋義,  加藤 有行,  西山 洋,  井上 泰宣,  赤羽 正志,  高田 雅介,  安井 寛治,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-77
第三電極を有するマグネトロンスパッタ法によるAlドープZnO膜の低抵抗化(薄膜プロセス・材料,一般)

大島 穣,  牧野 雄一郎,  片桐 裕則,  新保 和夫,  黒木 雄一郎,  安井 寛治,  高田 雅介,  赤羽 正志,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-78
SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

本間 拓也,  佐藤 薫,  下村 健晴,  邵 力捷,  清水 英彦,  岩野 春男,  星 陽一,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-79
アゾベンゼン分子薄膜の近接場光加工とサブミクロン物質の配列制御(薄膜プロセス・材料,一般)

木村 浩章,  山崎 初,  大平 泰生,  新保 一成,  馬場 暁,  加藤 景三,  金子 双男,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-80
細管内金属ワイヤ電極を用いたエレクトロスピニング法による高分子ファイバーの作製(薄膜プロセス・材料,一般)

星野 力哉,  小野塚 信太郎,  大平 泰生,  馬場 暁,  新保 一成,  加藤 景三,  金子 双男,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-81
Al下地膜上へのSrAl_2O_4薄膜の剥離抑制の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

張 鋒,  纐纈 正和,  清水 英彦,  岩野 春男,  川上 貴浩,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-82
Mg膜とNi膜の膜厚比を変化させたMg-Ni薄膜の光学的特性(薄膜プロセス・材料,一般)

平田 真,  岡田 智弘,  清水 英彦,  岩野 春男,  川上 貴浩,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-83
Arイオン衝撃によるITO薄膜への効果の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

高橋 沙季,  二木 雅斗,  中村 陽平,  清水 英彦,  岩野 春男,  福嶋 康夫,  永田 向太郎,  星 陽一,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-84
電気磁気効果実現を目指したCr_2O_3スパッタ薄膜作製(薄膜プロセス・材料,一般)

大月 俊平,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-85
針状フラーレン凝集体合成プロセスの開発(薄膜プロセス・材料,一般)

境 恵二郎,  石塚 大祐,  飯尾 靖也,  栗原 浩平,  園村 拓也,  内田 勝美,  矢島 博文,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-86
絶縁体中に分散させたカーボンナノチューブにより作製した電子放出源(薄膜プロセス・材料,一般)

斉藤 裕史,  山上 朋彦,  林部 林平,  上村 喜一,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-87
反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般)

星 陽一,  石原 太樹,  境 哲也,  雷 浩,  清水 英彦,  

[発表日]2008/10/23
[資料番号]CPM2008-88
複写される方へ

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[発表日]2008/10/23
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Notice for Photocopying

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奥付

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[発表日]2008/10/23
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