エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2004/11/05)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2004/11/5
[資料番号]
目次

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[発表日]2004/11/5
[資料番号]
MMSによるSi(001)-c(4×4)構造形成時における表面反応の解析(薄膜プロセス・材料,一般)

原島 正幸,  安井 寛治,  高田 雅介,  赤羽 正志,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-135
Si(111)-(7×7)再構成表面上におけるInナノクラスター配列構造上へのSb吸着(薄膜プロセス・材料,一般)

斉藤 光史,  佐々木 透,  佐々木 寛和,  森 雅之,  丹保 豊和,  龍山 智栄,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-136
大気開放CVD法によるZnO:Al薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

小柳 泰輔,  神保 和夫,  篠田 俊介,  小林 武,  片桐 裕則,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-137
SnドープGaAs_<1-x>Sb_xエピタキシャル層の光学特性(薄膜プロセス・材料,一般)

西野 文雄,  武井 達也,  加藤 有行,  神保 良夫,  内富 直隆,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-138
Si基板上に成長した(Ga,Mn)Asの磁気輸送特性(薄膜プロセス・材料,一般)

佐藤 慎哉,  神保 良夫,  内富 直隆,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-139
Bi-2212単結晶の合成と自己平坦化法によるスタック型素子作製(薄膜プロセス・材料,一般)

船曳 英男,  岡上 久美,  石田 弘樹,  島影 尚,  王 鎮,  阿部 浩也,  濱崎 勝義,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-140
低分子有機EL素子の低周波ノイズ特性(薄膜プロセス・材料,一般)

秋山 裕一,  岡上 久美,  石田 弘樹,  濱崎 勝義,  

[発表日]2004/11/5
[資料番号]CPM2004-141
複写される方へ

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[発表日]2004/11/5
[資料番号]
奥付

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[発表日]2004/11/5
[資料番号]