エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2003/07/25)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2003/7/25
[資料番号]
目次

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[発表日]2003/7/25
[資料番号]
C_<60>低次元ナノ構造超薄膜の形成(電子部品・材料, 及び一般)

奥山 博基,  金城 あかね,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-61
STMを用いたMMSiにより形成されるSi(001)-c(4×4)構造の評価(電子部品・材料, 及び一般)

原島 正幸,  安井 寛治,  赤羽 正志,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-62
InP/GaInAs/InPおよびGaAs/GaInP/GaAsヘテロ界面の原子レベル構造と成長条件依存性(電子部品・材料, 及び一般)

田渕 雅夫,  久留 真一,  大賀 涼,  小泉 淳,  藤原 康文,  竹田 美和,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-63
シリコン酸化膜中のゲルマニウムナノ結晶の光学的および電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)

竹谷 聖克,  大巻 信也,  西野 元一,  福田 永,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-64
ULSIプロセス用薄膜の分光エリプソメトリ : 遷移金属窒化物バリア層の光学的性質(電子部品・材料, 及び一般)

,  /,  山口 十六夫,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-65
極薄TiHfNバリヤを用いたCu/TiHfN/Siコンタクトの熱的安定性(電子部品・材料, 及び一般)

武山 真弓,  小杉 努,  五十嵐 準一,  野矢 厚,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-66
Cu/SiO_2間の極薄VNバリヤの劣化メカニズム(電子部品・材料, 及び一般)

武山 真弓,  糸井 貴臣,  梁田 修,  佐藤 和美,  野矢 厚,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-67
有機金属分解法により形成した酸化タンタル薄膜の構造と電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)

斎藤 裕昭,  水上 雅裕,  福田 永,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-68
有機金属分解法により形成した酸化チタン薄膜の構造と電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)

田中 茂雄,  渡辺 幹夫,  福田 永,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-69
ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO_2膜の高速堆積(電子部品・材料, 及び一般)

石井 清,  黒川 和成,  吉原 佐知雄,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-70
スパッタ法によるフィルム基板上への透明導電膜の作製(電子部品・材料, 及び一般)

加藤 博臣,  船津 健太郎,  星 陽一,  

[発表日]2003/7/25
[資料番号]CPM2003-71
奥付

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[発表日]2003/7/25
[資料番号]
複写される方へ

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[発表日]2003/7/25
[資料番号]