エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2000/08/18)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2000/8/18
[資料番号]
目次

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[発表日]2000/8/18
[資料番号]
CPM2000-84 Cu/SiO_2間に介在させたTa-W合金薄膜のバリヤ特性

榊 秀善,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-84
CPM2000-85 Cu/SiO_2間におけるVN膜のバリヤ特性

佐藤 和美,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-85
CPM2000-86 シリコン酸化膜中のゲルマニウム微結晶成長とその評価

山田 友和,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-86
CPM2000-87 真空蒸着法によるC60超薄膜の作製

大下 和洋,  岩田 展幸,  山本 寛,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-87
CPM2000-88 有機金属分解法を用いたジルコン酸鉛薄膜形成と電気的特性

中村 滋宏,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-88
CPM2000-89 有機金属分解法を用いたチタン酸鉛薄膜形成と電気的特性評価

余湖 広充,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-89
CPM2000-90 NbドープSrTiO_3薄膜の膜質に及ぼすMgO基板表面処理とポストアニールの影響

鈴木 崇司,  阿部 良夫,  川村 みどり,  佐々木 克孝,  

[発表日]2000/8/18
[資料番号]CPM2000-90
[OTHERS]

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[発表日]2000/8/18
[資料番号]
裏表紙

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[発表日]2000/8/18
[資料番号]