エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2000/08/17)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2000/8/17
[資料番号]
目次

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[発表日]2000/8/17
[資料番号]
CPM2000-70 Cu上の表面保護膜としてのAl-Mo合金膜の適用

武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-70
CPM2000-71 Ta窒化物のTa-Al化合物膜への代替による薄膜キャパシタの容量低減の抑制効果

田邉 彩,  山根 美佐雄,  佐々木 克孝,  阿部 良夫,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-71
CPM2000-72 WOx薄膜の形成過程とその電気及び光学特性

山本 明典,  驚頭 永輔,  阿部 良夫,  川村 みどり,  佐々木 克孝,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-72
CPM2000-73 白金-酸化タングステンゲートMOSFET型ガスセンサの試作

上西 龍二,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-73
CPM2000-74 有機金属分解法を用いた酸化イットリウム薄膜形成と電気的特性評価

村上 大輔,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-74
CPM2000-75 有機金属分解によって形成した(1-x)Ta_2O_<5-x>TiO_2薄膜の電気的特性と構造

カジ サラム,  福田 永,  野村 滋,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-75
CPM2000-76 導電性RhO2薄膜の電気特性に及ぼす熱処理の影響

加藤 清彦,  山本 千晴,  阿部 良夫,  川村 みどり,  佐々木 克孝,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-76
CPM2000-77 非晶質基板上へのCe : YIG薄膜の形成

野毛 悟,  宇野 武彦,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-77
CPM2000-78 低電圧スパッタ法により成膜したITO薄膜の熱処理効果

大木 竜磨,  星 陽一,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-78
CPM2000-79 高容量ニッケル水素蓄電池AAA750の開発

黒葛 原実,  児玉 充浩,  古川 健吾,  陳 芳瑜,  金本 学,  綿田 正治,  押谷 政彦,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-79
CPM2000-80 バックアップ電池としてのニッケル水素電池の長寿命化

朝倉 薫,  蓮井 暖美,  下村 誠,  平井 敏郎,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-80
CPM2000-81 Al-Mo/n-InPコンタクトにおける電気的特性と界面反応との関連

武山 真弓,  厚地 呂比奈,  野矢 厚,  橋詰 保,  長谷川 英機,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-81
CPM2000-82 (001)Si上(111)Cu/(111)HfN/(002)Hf三層膜の連続単配向成長に及ぼすHf膜厚の影響

北田 泰裕,  新海 聡子,  柳沢 英人,  佐々木 克孝,  阿部 良夫,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-82
CPM2000-83 薄いZrN/Zr2層膜を介在させたAl/ZrN/Zr/Siコンタクト系の熱的安定性

三宅 秀和,  柳沢 英人,  新海 聡子,  佐々木 克孝,  阿部 良夫,  

[発表日]2000/8/17
[資料番号]CPM2000-83
[OTHERS]

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[発表日]2000/8/17
[資料番号]
裏表紙

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[発表日]2000/8/17
[資料番号]