エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:1999/05/20)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1999/5/20
[資料番号]
目次

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[発表日]1999/5/20
[資料番号]
電子ビーム励起プラズマによる光導波路用五酸化ニオブ薄膜の特性

鈴木 連,  久保田 高徳,  六鹿 太詞,  黄 振賢,  吉岡 敏太郎,  貴田 桂介,  馬場 清英,  池澤 俊治郎,  西脇 彰,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-1
電子ビーム励起プラズマによる光触媒二酸化チタン薄膜の環境への応用

久保田 高徳,  鈴木 連,  六鹿 太詞,  黄 振賢,  吉岡 敏太郎,  貴田 桂介,  馬場 清英,  西脇 彰,  池澤 俊治郎,  二宮 善彦,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-2
拡がり抵抗測定により求めたSOI基板中のキャリア分布

市村 正也,  大橋 智仁,  荒井 英輔,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-3
不均一キャリア濃度分布がDLTS測定に及ぼす影響

伊藤 明,  徳田 豊,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-4
発光顕微鏡による0.1ミクロン以下の分解能でのMOS酸化膜欠陥位置の決定

大曽根 隆志,  勇崎 正恵,  松田 敏弘,  亀田 悦正,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-5
薄層SOIパワーMOSFET

松本 聡,  平岡 靖史,  谷内 利明,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-6
GSM用高効率Si-RFパワーMOSFETの開発

草刈 ゆり,  森川 正敏,  藤岡 徹,  勝枝 嶺雄,  松永 良国,  神代 岩道,  小野沢 和徳,  佐藤 孝弘,  吉田 功,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-7
ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長

吉田 行男,  高橋 幸大,  佐々木 公洋,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-8
高濃度ボロン添加シリコン結晶成長

太子 敏則,  深海 龍夫,  黄 新明,  干川 圭吾,  久保田 政芳,  梶ケ谷 富男,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-9
「招待論文」高周波ワイドギャップ半導体デバイス

正戸 宏幸,  池田 義人,  松野 年伸,  西井 勝則,  井上 薫,  上田 大助,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-10
有機シリコン材料からのSiC薄膜の形成における組成制御

村松 隆広,  徐 應楡,  青木 徹,  畑中 義式,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-11
CuInSe_2薄膜のイオン注入による不純物導入効果

田中 徹,  若原 昭浩,  大島 武,  伊藤 久義,  岡田 漱平,  吉田 明,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-12
レーザーアブレーション法によるZnO薄膜の作製

廣江 吉倫,  若原 昭浩,  吉田 明,  

[発表日]1999/5/20
[資料番号]CPM99-13
[OTHERS]

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[発表日]1999/5/20
[資料番号]