エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:1996/11/08)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1996/11/8
[資料番号]
目次

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[発表日]1996/11/8
[資料番号]
Tiを用いたナノ・メーター超微細加工技術の開発

小野 孝,  藤丸 幸二,  松村 英樹,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-104
Al/Nb/SiO_2/Si構造におけるAl(111)面の高配向成長と界面反応の評価

福田 朝之,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-105
Cu/SiコンタクトにおけるTa-W合金膜の拡散バリヤとしての評価

佐瀬 瞳子,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-106
Cu/W-nitride/Siコンタクト系におけるW-nitride薄膜のバリヤ特性

武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-107
ドナー性分子吸着TCNQ LB膜の全反射減衰法による評価

大橋 健一,  新保 一成,  加藤 景三,  金子 双男,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-108
ErドープSi膜のIBE成長と発光特性

松岡 茂登,  東野 俊一,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-109
IBSによるSiGeエピタキシャル成長の基礎特性

佐々木 公洋,  中田 圭一,  畑 朋延,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-110
スプレー法によるCuInS_2薄膜の作製[III]

小林 敏志,  小出 任子,  川上 貴浩,  金子 双男,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-111
完全熱化条件下のスパッタ成膜 : Co膜について

石井 清,  川津 雅巳,  南田 宏典,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-112
S層R層交互積層膜の熱処理によるBaフェライト薄膜の作製

清水 英彦,  篠崎 秀明,  上原 功,  金 真一郎,  星 陽一,  加藤 景三,  金子 双男,  井川 博行,  

[発表日]1996/11/8
[資料番号]CPM96-113
[OTHERS]

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[発表日]1996/11/8
[資料番号]