エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：2008/10/02)

タイトル/著者/発表日/資料番号
角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)

諏訪 智之,  荒谷 崇,  樋口 正顕,  須川 成利,  池永 英司,  牛尾 二郎,  野平 博司,  寺本 章伸,  大見 忠弘,  服部 健雄,  

[発表日]2008/10/2
[資料番号]SDM2008-167
原子オーダ平坦化ウェハ表面のAFM評価手法及びデータ解析手法(プロセス科学と新プロセス技術)

譽田 正宏,  寺本 章伸,  諏訪 智之,  黒田 理人,  大見 忠弘,  

[発表日]2008/10/2
[資料番号]SDM2008-168
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[発表日]2008/10/2
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[発表日]2008/10/2
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[発表日]2008/10/2
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