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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED 2022-12-08
14:10
愛知 12/8 名大,12/9 ウインク愛知(会場は「詳細はこちら」を参照ください) 直流および高周波マグネトロンスパッタ法により成膜した窒化ハフニウム薄膜の仕事関数の測定
大住知暉京大)・長尾昌善産総研)・後藤康仁京大ED2022-53
直流および高周波マグネトロンスパッタ法を用い, 成膜時に導入するガスの窒素流量比を変化させ, 窒素組成の異なる窒化ハフニ... [more] ED2022-53
pp.15-17
SDM, ED, CPM
(共催)
2022-05-27
14:40
ONLINE オンライン開催 反応性スパッタリングによる窒化物誘電体薄膜の堆積とシリコンフォトニクス応用
福島孝晃ホセ ピエドラ ロレンサナ土谷 塁飛沢 健石川靖彦豊橋技科大ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17
SiNxはSiに比べて熱光学係数が約1桁小さい特長があり、熱的に安定動作する合分波器など、シリコンフォトニクス素子の特性... [more] ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17
pp.13-16
CPM 2021-10-27
10:30
ONLINE オンライン開催 Cu-TSVのためのSiNx膜の低温堆積法に関する検討
佐藤 勝武山真弓北見工大CPM2021-21
3次元集積回路におけるCuを用いたシリコン貫通ビアでは、絶縁膜の200℃以下での堆積法を実現することが望まれている。そこ... [more] CPM2021-21
pp.5-7
CPM 2014-10-25
09:40
長野 信州大学工学部 地域共同研究センター3階研修 キャンパスマップ17番 3D及び2.5D-IC配線に適用可能な低温SiNx膜の特性
武山真弓佐藤 勝北見工大)・小林靖志中田義弘中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2014-115
微細化により達成してきた従来のLSIの高性能化は、量子限界や微細化限界が切迫し、新たな方向性の検討が盛んに行われている。... [more] CPM2014-115
pp.53-56
CPM 2013-10-24
16:55
新潟 新潟大ときめいと 低温プロセスによるSiNx膜の特性評価
武山真弓佐藤 勝北見工大)・中田義弘小林靖志中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2013-100
微細化により達成してきた従来のLSIの高性能化は、量子限界や微細化限界が切迫し、新たな方向性の検討が盛んに行われている。... [more] CPM2013-100
pp.35-39
CPM 2012-10-27
09:10
新潟 まちなかキャンパス長岡 コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製
横本拓也荒井 崇小坂孝之岡島和希山上朋彦阿部克也榊 和彦信州大CPM2012-104
コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた
反応性スパッタリング法によりCuAlO$_{2}$薄膜の... [more]
CPM2012-104
pp.61-64
CPM 2012-08-09
09:25
山形 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室 反応性スパッタによるZrNxナノ結晶バリヤ膜の形成過程
佐藤 勝武山真弓北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2012-44
Cu多層配線は微細化に伴い、数nmオーダーの膜厚の拡散バリヤ膜が要請され、かつ優れたバリヤ性を実現する必要がある。我々は... [more] CPM2012-44
pp.45-49
SDM, ED
(共催)
(ワークショップ)
2012-06-28
10:40
沖縄 沖縄県青年会館 [ポスター講演]The surface morphology and electrical properties of NiO with various RF power and O2/(Ar+O2) gas mixture
Jonghun KimGyohun KooChangju LeeSungho HahmKyungpook National Univ.)・Youngchul JungGyeongju Univ.)・Yougsoo LeeKyungpook National Univ.
The crystalline structures of reactively sputtered nickel ox... [more]
CPM 2011-10-26
13:00
福井 福井大学 産学官連携本部研修室 複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製と構造評価
横本拓也前田洋輔宮澤 匠山上朋彦阿部克也信州大CPM2011-109
複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法を用いてCuAlO2薄膜の作製と構造評価を行った。
本研究での複合ターゲッ... [more]
CPM2011-109
pp.1-4
ITE-IDY, EID, IEIJ-SSL, IEE-EDD
(共催)
2010-01-28
14:35
福岡 九州大学(筑紫地区) 直流反応性スパッタリング法を用いたBaAl2S4 : Eu EL素子の作製
渡邉康裕三浦 登松本皓永中野鐐太郎明大EID2009-57
直流反応性スパッタリング法を用いて、BaAl2S4 : Eu 薄膜の作製を行った。導入ガスとして Ar および H2S ... [more] EID2009-57
pp.41-44
ED 2009-07-31
13:45
大阪 大阪大学(銀杏会館) TaAl-Nを用いた薄膜マイクロ真空センサの開発
岡野夕紀子田尻修一青園隆司岡野製作所)・岡本昭夫阪府産技研)・小川倉一小川創造技研)・美馬宏司阪市大ED2009-114
反応性スパッタ法により作製した高TCR(抵抗温度係数)のTaAl-N複合薄膜を用いた薄膜マイクロセンサを開発し、大気圧か... [more] ED2009-114
pp.63-67
CPM 2008-10-30
13:00
新潟 新潟大学 反応性スパッタ法によるCuInS2薄膜の作製と評価
山口拓也坪井 望新潟大)・大石耕一郎長岡高専)・小林敏志金子双男新潟大CPM2008-75
Cu及びInターゲット前での基板停止時間を原子層オーダー程度で制御し,反応性ガスCS2雰囲気中で各金属ターゲットを交互ス... [more] CPM2008-75
pp.1-6
CPM 2008-10-31
11:45
新潟 新潟大学 反応性高速スパッタ法により作製したTiO2薄膜の構造と光触媒特性
星 陽一石原太樹境 哲也雷 浩東京工芸大)・清水英彦新潟大CPM2008-88
メタルモードで動作するTi原子供給用スパッタ源と、酸化物モードで動作する酸素ラジカル供給用のスパッタ源を組み合わせた反応... [more] CPM2008-88
pp.75-79
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