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電磁界理論技術委員会 (IEE-EMT)
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研究会
発表日時
開催地
タイトル・著者
抄録
資料番号
HWS
2023-04-15
10:45
大分
湯布院公民館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
胎動回路のPUF応用
○
成瀬厚太郎
・
上田貴之
・
塩見 準
・
御堂義博
・
三浦典之
(
阪大
)
HWS2023-12
本論文では, コンピュータを動作させるための未開拓のエネルギー場として, 半導体製造工程で利用される高エネルギーのプラ...
[more]
HWS2023-12
pp.49-50
SDM
2023-02-07
10:45
東京
東京大学 武田ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]先端3D構造ロジック・メモリデバイスにおける原子層等方加工技術
○
大竹浩人
(
日立ハイテクノロジーズ
)
SDM2022-86
2nm以降のLogicデバイスや100層以上のNANDデバイスにおいて、原子層等方加工技術(Isotropic Atom...
[more]
SDM2022-86
pp.5-8
SDM
2021-11-11
15:15
ONLINE
オンライン開催
[招待講演]プラズマからのイオン衝撃により形成される欠陥構造の解析技術
○
江利口浩二
(
京大
)
SDM2021-57
電子デバイス製造においてプラズマプロセスは重要な役割を担っている.プラズマエッチングでは,イオン照射と表面反応最適化によ...
[more]
SDM2021-57
pp.23-28
SDM
2021-01-28
15:35
ONLINE
オンライン開催
[招待講演]プラズマ曝露中に確率的ラテラル散乱によって導入されるシリコン中の欠陥が超低リーク電流デバイスに与える影響の評価
○
佐藤好弘
・
山田隆善
・
西村佳壽子
・
山崎雅之
・
村上雅史
(
パナソニック
)・
占部継一郎
・
江利口浩二
(
京大
)
SDM2020-53
イメージセンサに代表される超低リーク電流デバイスを設計する上で,極微少量欠陥の存在および分布がデバイス特性に及ぼす影響を...
[more]
SDM2020-53
pp.17-20
SDM
2020-02-07
11:20
東京
東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室(419号室)
[招待講演]高精度デュアルダマシン加工技術
藤川 誠
・
山口達也
(
TTS
)・
菊地裕樹
・
前川 薫
(
TEL Technology Center, America
)・
河崎洋章
・○
飯塚洋二
(
東京エレクトロン
)
SDM2019-92
Abstract— Plasma induced damage on porous low-k dielectrics ...
[more]
SDM2019-92
pp.21-23
LQE
,
OPE
,
SIPH
(共催)
2018-12-06
17:10
東京
慶應義塾大学
III-V/Siハイブリッド集積に向けた二段テーパ構造の高光結合効率
○
菊地健彦
(
住友電工/東工大
)・
鈴木純一
・
立花文人
(
東工大
)・
井上尚子
・
八木英樹
(
住友電工
)・
Moataz Eissa
・
御手洗拓矢
・
雨宮智宏
・
西山伸彦
・
荒井滋久
(
東工大
)
OPE2018-129 LQE2018-139 SIPH2018-45
III-V族半導体から成るアクティブ素子とSiフォトニクスのハイブリッド集積技術は,小型,高速かつ,低消費電力な次世代の...
[more]
OPE2018-129
LQE2018-139
SIPH2018-45
pp.161-164
OME
2017-12-01
09:20
佐賀
サンメッセ鳥栖
プラズマ融合CMPによる大型ダイヤモンド基板の高効率加工とその加工メカニズム
○
武田秀俊
(
並木精密宝石
)・
土肥俊郎
(
九大
)・
金 聖祐
(
並木精密宝石
)・
會田英雄
(
長岡技科大
)・
白谷正治
(
九大
)
OME2017-35
次世代半導体材料として知られるSiC,GaN,ダイヤモンドは,同時にCMP工程における超難加工材料としても知られている....
[more]
OME2017-35
pp.1-6
ED
2017-04-20
15:25
宮城
東北大学電気通信研究所 本館 6階 大会議室
室温原子層堆積法を用いたSnO2膜作製およびデバイス応用
○
齊藤俊介
・
野老健太郎
・
鹿又健作
・
三浦正範
・
有馬 ボシール アハンマド
・
久保田 繁
・
廣瀬文彦
(
山形大
)
ED2017-5
酸化スズ(SnO2)を用いたガスセンサは大半が焼結形であるために、粒径分布による特性のばらつきが生じやすく、また粒径に対...
[more]
ED2017-5
pp.17-20
LQE
,
OPE
,
EMD
,
R
,
CPM
(共催)
2016-08-25
10:10
北海道
函館ロワジールホテル
AlInAs酸化狭窄構造を有するGaInAsP/SOIハイブリッドFPレーザの作製
○
鈴木純一
・
林 侑介
・
井上慧史
・
雨宮智宏
・
西山伸彦
・
荒井滋久
(
東工大
)
R2016-21 EMD2016-25 CPM2016-34 OPE2016-55 LQE2016-30
高効率III-V/SOIハイブリッドレーザ実現に向け、光閉じ込めも可能なAlInAs酸化電流狭窄構造を有するFabry-...
[more]
R2016-21
EMD2016-25
CPM2016-34
OPE2016-55
LQE2016-30
pp.9-14
ED
2016-04-22
11:30
山形
山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室
プラズマ励起法を用いた室温原子層堆積法によるZrO2の試作と評価
○
野老健太郎
・
鹿又健作
・
三浦正範
・
有馬 ボシール アハンマド
・
久保田 繁
・
廣瀬文彦
(
山形大
)
ED2016-12
LSI分野において酸化ジルコニウムは高誘電率ゲート絶縁膜としての利用が期待されている。一般に酸化ジルコニウムは熱原子層堆...
[more]
ED2016-12
pp.47-50
VLD
,
DC
,
IPSJ-SLDM
(連催)
ICD
,
CPM
(共催)
CPSY
,
RECONF
(併催)
[詳細]
2015-12-01
13:10
長崎
長崎県勤労福祉会館
GPUをもちいたホールスラスタ・シミュレーションの割り付け処理の高速化の検討
○
宮島敬明
・
張 科寅
・
藤田直行
(
JAXA
)
CPSY2015-62
電気推進エンジンは、従来の化学推進エンジンに比べ1桁程度高い比推力と搭載推進剤重量の削減による軽量化により、宇宙における...
[more]
CPSY2015-62
pp.7-12
SDM
2015-10-29
15:20
宮城
東北大学未来研
Xe/H2プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術
○
諏訪智之
・
寺本章伸
・
後藤哲也
・
平山昌樹
・
須川成利
・
大見忠弘
(
東北大
)
SDM2015-73
MOSデバイスにおいてゲート絶縁膜とシリコンの界面の平坦性は,デイバス性能および動作信頼性に大きく影響する.近年開発が盛...
[more]
SDM2015-73
pp.13-16
SDM
2015-10-30
09:30
宮城
東北大学未来研
[招待講演]マイクロ波励起プラズマによる立体構造体への等方均一注入技術
○
上田博一
(
TEL TDC
)・
ピーター ベントゼック
(
TEL AMERICA
)・
岡 正浩
・
小林勇気
・
杉本靖広
・
川上 聡
(
TEL TDC
)
SDM2015-76
Si FIN 構造体へのコンフォーマル砒素ドーピング形成をRLSATMマイクロ波プラズマと650~850度程度の低温熱処...
[more]
SDM2015-76
pp.29-33
SDM
,
EID
(共催)
2014-12-12
17:00
京都
京都大学
水蒸気を用いたプラズマ誘起原子層堆積法によるAl2O3膜の形成
○
梅原智明
・
堀田昌宏
・
吉嗣晃治
・
石河泰明
・
浦岡行治
(
奈良先端大
)
EID2014-36 SDM2014-131
窒化ガリウムパワーデバイス応用を目的として, Al2O3絶縁膜を原子層堆積法(ALD)により堆積した. 堆積サイクルの酸...
[more]
EID2014-36
SDM2014-131
pp.119-123
ICD
,
CPSY
(共催)
2014-12-02
14:50
東京
機械振興会館
65 nmプロセスにおけるアンテナダメージによる経年劣化の測定と評価
○
岸田 亮
・
大島 梓
・
小林和淑
(
京都工繊大
)
ICD2014-106 CPSY2014-118
近年の集積回路の微細化により,アンテナダメージによる信頼性の低下が懸念されている.本稿では,アンテナダメージによる経年劣...
[more]
ICD2014-106
CPSY2014-118
pp.123-128
SDM
2014-10-16
16:00
宮城
東北大学未来研
Electrical characteristics of as-deposited HfN gate insulator formed by ECR plasma sputtering
○
Nithi Atthi
・
Shun-ichiro Ohmi
(
TokyoTech
)
SDM2014-87
[more]
SDM2014-87
pp.19-22
ICD
,
SDM
(共催)
2014-08-05
14:55
北海道
北海道大学 情報教育館(札幌市)
65nmSOTBプロセスで試作したリングオシレータを用いたアンテナダメージによる初期発振周波数劣化の測定と評価
○
大島 梓
・
岸田 亮
・
籔内美智太郎
・
小林和淑
(
京都工繊大
)
SDM2014-79 ICD2014-48
近年の集積回路の微細化に伴い, BTIやアンテナダメージの影響が深刻化してい
る。本研究では, 65nm バルク・S...
[more]
SDM2014-79
ICD2014-48
pp.93-98
SDM
2014-02-28
10:10
東京
機械振興会館
[招待講演]先端Low-k配線技術における課題と指針
○
井上尚也
(
ルネサス エレクトロニクス
)
SDM2013-166
先端LSIの多層配線の開発トレンドを概観しながら、Low-k材料に注目したインテグレーションの課題とその解決策についてま...
[more]
SDM2013-166
pp.7-12
OME
2013-12-17
14:25
東京
機械振興会館
低電圧ソリューションプラズマ法を用いた白金ナノ粒子の調製
○
加藤拓海
・
西川太二
・
城石英伸
(
東京高専
)・
中島達朗
・
松田直樹
(
産総研
)
OME2013-80
低電圧・低周波数ソリューションプラズマ法(SPP-LVLF)は,簡便で消費電力が低いため,固体高分子形燃料電池の触媒とし...
[more]
OME2013-80
pp.17-20
VLD
,
DC
,
IPSJ-SLDM
(連催)
ICD
,
CPM
(共催)
CPSY
,
RECONF
(併催)
[詳細]
2013-11-28
13:20
鹿児島
鹿児島県文化センター
バルクとSOTBにおけるアンテナダメージによるリングオシレータの発振周波数ばらつきの評価
○
岸田 亮
・
籔内美智太郎
・
大島 梓
・
小林和淑
(
京都工繊大
)
VLD2013-83 DC2013-49
近年の集積回路の微細化により、アンテナダメージによる信頼性の低下が懸念されている。
本稿ではリングオシレータにおいて発...
[more]
VLD2013-83
DC2013-49
pp.159-164
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