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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2006-06-22
10:30
広島 広島大学, 学士会館 角度分解光電子分光を用いたSiO2/SiN積層膜の窒素濃度分布の解析
豊田智史岡林 潤尾嶋正治東大)・劉 国林劉 紫園池田和人臼田宏治半導体理工学研究センター
酸窒化膜の窒素濃度分布および化学結合状態はトランジスタの特性および構造を理解するために重要である。角度分解光電子分光法は... [more] SDM2006-55
pp.77-80
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