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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2023-10-13 13:00 |
宮城 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | ［招待講演］UVナノインプリントリソグラフィーの欠陥低減 ○伊藤俊樹（キヤノン）  SDM2023-54 |
半導体デバイス製造への適用を目指して、インクジェット吐出型UVナノインプリント技術を開発中である。従来はレジストドロップ... [more] | SDM2023-54 pp.1-6 |
| HWS, VLD (共催) |
2023-03-01 15:20 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法 ○齊藤颯太・堀本 遊・高橋篤司（東工大）・小平行秀（会津大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2022-80 HWS2022-51 |
近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．... [more] | VLD2022-80 HWS2022-51 pp.43-48 |
| HWS, VLD (共催) |
2023-03-04 11:05 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：走査型プローブリソグラフィによるクローンの作製 ○吉田直樹・岩橋 虎（横浜国大）・法元盛久・太田淳子・角谷 薫（産総研）・松本 勉（横浜国大） VLD2022-117 HWS2022-88 |
ナノ人工物メトリクスはナノメートルオーダーの３次元構造（ナノパターン）が複製困難であることをそのセキュリティの根拠として... [more] | VLD2022-117 HWS2022-88 pp.245-250 |
| CPM | 2023-02-28 16:00 |
東京 | 東京工科大学 + オンライン開催 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
微細素子静電強結合のための原子層堆積TiO2膜の研究 ○高田文洋・水柿義直・島田 宏（電通大） CPM2022-106 |
微細電子デバイスを静電容量を介して強く結合する際には、誘電層に比誘電率が高い材料が必要となる。本研究では、高誘電率材料の... [more] | CPM2022-106 pp.78-81 |
| VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:20 |
熊本 | 金沢市文化ホール （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法 ○齊藤颯太・高橋篤司（東工大） VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 |
近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．... [more] | VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 pp.121-126 |
| VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:45 |
熊本 | 金沢市文化ホール （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 ○野中尚貴・小平行秀（会津大）・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] | VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 pp.127-132 |
| VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM (連催) (併催) [詳細] |
2021-12-02 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 |
半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウ... [more] | VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 pp.162-167 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-105 HWS2019-78 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-105 HWS2019-78 pp.65-70 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:50 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
リソグラフィホットスポット検出用既存訓練データの修正による訓練データの追加生成 ○片岡 岳・稲木雅人・永山 忍・若林真一（広島市大） VLD2019-107 HWS2019-80 |
半導体製造工程のリソグラフィにおいて発生する，異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンをホットスポットと呼ぶ．... [more] | VLD2019-107 HWS2019-80 pp.77-82 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 15:45 |
愛媛 | 愛媛県男女共同参画センター | 配線幅および配線間距離を考慮した特徴量によるリソグラフィホットスポット検出 ○片岡 岳・稲木雅人・永山 忍・若林真一（広島市大） VLD2019-51 DC2019-75 |
半導体製造工程の一つであるリソグラフィにおいて発生する，異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンのことをホット... [more] | VLD2019-51 DC2019-75 pp.185-190 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:35 |
愛媛 | 愛媛県男女共同参画センター | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-53 DC2019-77 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-53 DC2019-77 pp.197-202 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-07 14:10 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮・野嶋茂樹（東芝メモリ） VLD2018-70 DC2018-56 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソグ... [more] | VLD2018-70 DC2018-56 pp.209-214 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2018-05-16 15:50 |
福岡 | 北九州国際会議場 | マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大） VLD2018-3 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソ... [more] | VLD2018-3 pp.31-36 |
| VLD, HWS (併催) |
2018-03-01 09:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 配線間距離を考慮した特徴量に基づくリソグラフィホットスポット検出手法の検討 ○片岡 岳・稲木雅人・永山 忍・若林真一（広島市大） VLD2017-105 |
LSI 製造工程のひとつであるリソグラフィにおいて，故障を引き起こす確率が高いレイアウトパターンをホットスポットと呼ぶ．... [more] | VLD2017-105 pp.97-102 |
| VLD, HWS (併催) |
2018-03-01 09:25 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 転移学習に基づく効率的なリソグラフィホットスポット検出器の生成手法 ○鈴木脩平・富岡洋一（会津大） VLD2017-106 |
半導体の微細化が進むにつれて，ウェハー上に転写されるパターンの忠実度が低下している．このため， 最先端の製造プロセスにお... [more] | VLD2017-106 pp.103-108 |
| ITE-IDY, IEE-EDD (共催) IEIJ-SSL, SID-JC (共催) EID (連催) [詳細] |
2018-01-26 09:50 |
静岡 | 静岡大学 浜松キャンパス | ナノインプリントリソグラフィを用いたV溝構造を有する液晶素子の基礎検討 ○春名皓太・岡田裕之（富山大） EID2017-41 |
フレキシブル液晶パネルへ適用可能なノンラビング配向法として、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)を用い超微細V溝構造を... [more] | EID2017-41 pp.65-68 |
| SDM, EID (共催) |
2017-12-22 10:30 |
京都 | 京都大学 | 薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果 ○中井雄也・石河泰明・浦岡行治（奈良先端大） EID2017-11 SDM2017-72 |
薄型結晶シリコン太陽電池の実現には光吸収層内での光り閉じ込め効果が重要であり，光の多重反射を目的としたテクスチャを形成す... [more] | EID2017-11 SDM2017-72 pp.1-4 |
| ED | 2017-08-09 15:25 |
東京 | 機械振興会館 | 放射光ディープX線リソグラフィーシステム (BL11)を用いた大面積均一加工の検討 ○竹内雅耶・山口明啓・内海裕一（兵庫県立大） ED2017-29 |
高アスペクト比な3次元微細構造体を作製するためのディープX線リソグラフィーシステム (BL11)を、兵庫県立大学所有の中... [more] | ED2017-29 pp.17-18 |
| ICD | 2017-04-20 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］ナノドット型恒久メモリーの研究 ○渡邊 強・三浦典之・劉 施佳・今井繁規・永田 真（神戸大） ICD2017-4 |
ワード線、ビット線の交差部分に配したナノドットの静電容量をデータとして読み取る恒久メモリーを考案し、0.18᠊... [more] | ICD2017-4 pp.17-22 |
| OME, SDM (共催) |
2017-04-20 16:45 |
鹿児島 | 龍郷町生涯学習センター | 非晶質ルブレンをゲート絶縁膜に用いたトップゲート型OFETに関する検討 ○大見俊一郎・廣木瑞葉・張 鴻立・前田康貴（東工大） SDM2017-4 OME2017-4 |
有機半導体電界効果トランジスタ(OFET)は、アモルファスSiをしのぐ高いホール移動度を示し、将来のフレキシブルエレクト... [more] | SDM2017-4 OME2017-4 pp.15-18 |
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